[发明专利]一种嗅觉感存算一体化忆阻器及其制备方法在审
申请号: | 202210896285.6 | 申请日: | 2022-07-28 |
公开(公告)号: | CN115172586A | 公开(公告)日: | 2022-10-11 |
发明(设计)人: | 王天宇;孟佳琳;陈琳;孙清清;张卫 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00 |
代理公司: | 北京得信知识产权代理有限公司 11511 | 代理人: | 孟海娟 |
地址: | 200433 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 嗅觉 感存算 一体化 忆阻器 及其 制备 方法 | ||
1.一种嗅觉感存算一体化忆阻器,其特征在于,
包括:
衬底;
底层叉指电极,形成在所述衬底上;
电阻调控功能层,其为高k介质薄膜,形成在所述底层叉指电极上;
气体探测功能层,其为SnO2薄膜,形成在所述电阻调控功能层上;
顶层叉指电极,形成在所述气体探测功能层上,其叉指延伸方向与底层叉指电极的叉指延伸方向正交,
在同一个忆阻器体系中实现硫化氢气体的感知、处理与记忆功能:释放硫化氢气体,器件的电导变大,实现嗅觉功能;撤除气体后电导被保持记忆,实现存储功能;器件能够对连续的硫化氢气体产生阶梯式响应,用于神经形态计算并对气体种类进行识别判断,实现计算功能。
2.根据权利要求1所述的嗅觉感存算一体化忆阻器,其特征在于,
所述高k介质材料为HfO2,ZrO2,TiO2,Al2O3。
3.根据权利要求1所述的嗅觉感存算一体化忆阻器,其特征在于,
所述底层叉指电极和所述顶层叉指电极的电极根数为3根~10根,间距为50μm~400μm。
4.根据权利要求1所述的嗅觉感存算一体化忆阻器,其特征在于,
所述高k介质材料的厚度为5nm~20nm;所述SnO2薄膜的厚度为5nm~20nm。
5.一种嗅觉感存算一体化忆阻器制备方法,其特征在于,
包括以下步骤:
在所述衬底上形成底层叉指电极;
在所述底层叉指电极上形成高k介质薄膜,作为电阻调控功能层;
在所述电阻调控功能层上形成SnO2薄膜,作为气体探测功能层;
在所述气体探测功能层上形成顶层叉指电极,其叉指延伸方向与底层叉指电极的叉指延伸方向正交,
在同一个忆阻器体系中实现硫化氢气体的感知、处理与记忆功能,释放硫化氢气体,器件的电导变大,实现嗅觉功能,撤除气体后电导被保持记忆,实现存储功能,器件能够对连续的硫化氢气体产生阶梯式响应,用于神经形态计算并对气体种类进行识别判断,实现计算功能。
6.根据权利要求5所述的嗅觉感存算一体化忆阻器制备方法,其特征在于,
所述高k介质材料为HfO2,ZrO2,TiO2,Al2O3。
7.根据权利要求5所述的嗅觉感存算一体化忆阻器制备方法,其特征在于,
所述底层叉指电极和所述顶层叉指电极的电极根数为3根~10根,间距为50μm~400μm。
8.根据权利要求5所述的嗅觉感存算一体化忆阻器制备方法,其特征在于,
所述高k介质材料的厚度为5nm~20nm;所述SnO2薄膜的厚度为5nm~20nm。
9.根据权利要求5所述的嗅觉感存算一体化忆阻器制备方法,其特征在于,
采用原子层沉积技术形成SnO2薄膜,并在管式炉中以550℃~700℃的温度退火30分钟~3小时。
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