[发明专利]一种清洗装置及其化学发光免疫分析仪

权利要求书

1.一种清洗装置，包括清洗座和废液管，所述清洗座内设有一般清洗室，所述废液管内设有废液排放通道，所述一般清洗室的顶端设有清洗口凹槽、底端与所述废液排放通道连通，其特征在于，所述清洗座内还包括与所述一般清洗室彼此隔离的特殊清洗室，所述特殊清洗室的顶端与所述清洗口凹槽连通；所述清洗座内设有一般清洗液供液件与所述一般清洗室连通并提供一般清洗液，所述清洗座内还设有特殊清洗液供液件与所述特殊清洗室连通并提供特殊清洗液，所述废液管内设有一般清洗液和特殊清洗液的排液附件与所述废液排放管道连通并为所述废液排放管道提供负压环境；

所述清洗口凹槽内设有与所述一般清洗室连通的一般清洗位和与所述特殊清洗室连通的特殊清洗位。

2.根据权利要求1所述的清洗装置，所述一般清洗液供液件包括一般清洗液接头和堵头，所述清洗座内设有第一注流通道和返流通道，所述一般清洗液接头与所述第一注流通道相连通，所述堵头与所述返流通道相连通，所述第一注流通道与所述返流通道相连通，所述返流通道与所述一般清洗室相连通。

3.根据权利要求2所述的清洗装置，所述一般清洗液接头和所述堵头的设置数量为两个，在所述清洗座上左右对称设置，所述第一注流通道和所述返流通道在所述清洗座上对称设置，左右两侧的返流通道在所述一般清洗室的中部形成汇流部。

4.根据权利要求3所述的清洗装置，所述一般清洗液接头与一般清洗液输液泵外接，两个所述一般清洗液接头中的液体流量相同。

5.根据权利要求3所述的清洗装置，所述堵头设置在所述清洗座的左右两侧部上方。

6.根据权利要求1所述的清洗装置，所述特殊清洗液供液件包括特殊清洗液接头，所述清洗座内设有第二注流通道，所述第二注流通道的一端与所述特殊清洗液接头相连通，另一端与所述特殊清洗室相连通。

7.根据权利要求6所述的清洗装置，所述特殊清洗液接接头设置在所述清洗座的一侧，所述第二注流通道和所述特殊清洗室的设置方向相互垂直。

8.根据权利要求6所述的清洗装置，所述特殊清洗液接头与特殊清洗液输液泵外接。

9.根据权利要求1所述的清洗装置，所述一般清洗液和特殊清洗液的排液件包括废液接头和抽液泵。

10.根据权利要求9所述的清洗装置，所述废液接头设置在所述废液管的末端，所述废液接头一端与所述废液排放通道相连通，另一端与所述抽液泵连通，为所述废液排放管道提供负压环境。

11.一种化学发光免疫分析仪，包括管库单元、温育单元、清洗单元和检测单元，其特征在于，还包括如权利要求1-10所述的清洗装置，用于将所述清洗单元中的加液针清洗干净。