[发明专利]成膜装置、成膜方法及蒸发源

说明书

本发明提供一种抑制蒸发源的大型化的成膜装置、成膜方法及蒸发源。成膜装置使蒸镀物质气化而在基板上进行成膜。容器形成收容蒸镀物质的收容空间及供气化的蒸镀物质扩散的扩散空间。板状构件在容器的内部分隔收容空间与扩散空间，并形成有供气化的蒸镀物质通过的开口。伸出部包围开口，从板状构件伸出。

技术领域

本发明涉及成膜装置、成膜方法及蒸发源。

背景技术

在有机EL显示器等的制造中，通过从蒸发源放出的蒸镀物质附着于基板而在基板形成薄膜。在专利文献1中，作为蒸发源的结构，公开了收容蒸镀物质的收容部与供气化的蒸镀物质扩散的扩散部沿上下方向分离设置，它们经由连通部连接的结构。

【现有技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】日本特开2018-003122号公报

发明内容

【发明要解决的课题】

在上述现有技术中，由于在收容蒸镀物质的收容部的形成上表面的壁部与供蒸镀物质扩散的扩散部的形成下表面的壁部之间设置连通部，因此蒸镀源可能沿上下方向大型化。

本发明提供一种抑制蒸发源的大型化的技术。

【用于解决课题的方案】

根据本发明的一方面，提供一种成膜装置，

所述成膜装置使蒸镀物质气化而在基板上进行成膜，其特征在于，具备：

容器，所述容器形成收容蒸镀物质的收容空间及供气化的蒸镀物质扩散的扩散空间；

板状构件，所述板状构件在所述容器的内部分隔所述收容空间与所述扩散空间，并形成有供气化的蒸镀物质通过的开口；及

伸出部，所述伸出部包围所述开口，从所述板状构件伸出。

另外，根据本发明的另一方面，提供一种成膜方法，其特征在于，包括使用上述的成膜装置在基板上进行成膜的成膜工序。

另外，根据本发明的另一方面，提供一种蒸发源，

所述蒸发源用于使蒸镀物质气化而在基板上进行成膜，其特征在于，具备：

容器，所述容器形成收容蒸镀物质的收容空间及供气化的蒸镀物质扩散的扩散空间；

板状构件，所述板状构件在所述容器的内部分隔所述收容空间与所述扩散空间，并形成有供气化的蒸镀物质通过的开口；及

伸出部，所述伸出部包围所述开口，从所述板状构件伸出。

【发明效果】

根据本发明，能够抑制蒸发源的大型化。

附图说明

图1是示意性地表示一实施方式的成膜装置的结构的俯视图。

图2是示意性地表示图1的成膜装置的结构的主视图。

图3是示意性地表示成膜单元的结构的立体图。

图4是表示蒸发源的内部构造的剖视图。

图5是空间形成部及板状构件的分解图。

图6是表示蒸发源及罩构件的结构的立体图。

图7是表示蒸发源及罩构件的结构的立体图。

图8(A)是有机EL显示装置的整体图，图8(B)是表示一像素的剖面构造的图。

【附图标记说明】