[发明专利]驱动基板的制备方法在审
| 申请号: | 202210792254.6 | 申请日: | 2022-07-05 |
| 公开(公告)号: | CN115079524A | 公开(公告)日: | 2022-09-20 |
| 发明(设计)人: | 汤帅;李烨操 | 申请(专利权)人: | 苏州华星光电技术有限公司 |
| 主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;H01L27/12 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 杨艇要 |
| 地址: | 215000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 驱动 制备 方法 | ||
1.一种驱动基板的制备方法,其特征在于,包括:
S1:提供一玻璃基板,通过第一掩模板与所述玻璃基板对位,以在所述玻璃基板上界定第一曝光区域,在所述玻璃基板的第一曝光区域形成第一曝光层,所述第一曝光层包括第一基准标尺;
S2:通过第二掩模板与所述玻璃基板对位,以在所述玻璃基板上界定第二曝光区域,所述第二曝光区域与所述第一曝光区域部分重叠设置以形成为第一拼接区域,在所述玻璃基板的所述第二曝光区域形成与所述第一曝光层同层设置的第二曝光层,所述第二曝光层包括第二基准标尺和第三基准标尺,所述第一基准标尺、所述第二基准标尺以及第三基准标尺同时位于所述第一拼接区域的外侧,且所述第二基准标尺位于所述第一基准标尺和所述第三基准标尺之间;
S3:通过第三掩模板同时与所述第一基准标尺和所述第二基准标尺进行对位后,以在所述玻璃基板上界定第三曝光区域;
S4:通过第四掩模板同时与所述第二基准标尺和所述第三基准标尺进行对位后,以在所述玻璃基板上界定第四曝光区域,所述第四曝光区域与所述第三曝光区域部分重叠设置形成第二拼接区域;
S5:通过所述第三掩模板对所述玻璃基板的第三曝光区域进行曝光以形成第三曝光层,所述第三曝光层位于所述第一曝光层的上方,通过所述第四掩模板对所述玻璃基板的第四曝光区域进行曝光以形成与所述第三曝光层同层设置的第四曝光层。
2.如权利要求1所述的驱动基板的制备方法,其特征在于,所述第二基准标尺位于所述第二拼接区域内。
3.如权利要求1所述的驱动基板的制备方法,其特征在于,所述第二基准标尺位于所述玻璃基板的中部。
4.如权利要求2所述的驱动基板的制备方法,其特征在于,所述第二基准标尺设有多个,多个所述第二基准标尺沿所述第二拼接区域的长度延伸方向间隔排列。
5.如权利要求4所述的驱动基板的制备方法,其特征在于,所述第二拼接区域的长度延伸方向的两端均设有一所述第二基准标尺。
6.如权利要求4所述的驱动基板的制备方法,其特征在于,所述第一基准标尺和所述第三基准标尺均设有多个,多个所述第一基准标尺沿所述第二拼接区域的长度延伸方向间隔排列,多个所述第三基准标尺沿所述第二拼接区域的长度延伸方向间隔排列。
7.如权利要求6所述的驱动基板的制备方法,其特征在于,一所述第一基准标尺分别与一所述第二基准标尺和一所述第三基准标尺沿所述第二拼接区域的宽度延伸方向平齐设置。
8.如权利要求1所述的驱动基板的制备方法,其特征在于,所述第一基准标尺位于所述第三曝光区域远离所述第四曝光区域的一侧。
9.如权利要求1所述的驱动基板的制备方法,其特征在于,所述第三基准标尺位于所述第四曝光区域远离所述第三曝光区域的一侧。
10.如权利要求1所述的驱动基板的制备方法,其特征在于,所述的驱动基板的制备方法在所述步骤S5之后还包括:
S6:通过第五掩模板同时与所述第一基准标尺和所述第二基准标尺进行对位后,以在所述玻璃基板上界定第五曝光区域;
S7:通过第六掩模板同时与所述第二基准标尺和所述第三基准标尺进行对位后,以在所述玻璃基板上界定第六曝光区域,所述第六曝光区域与所述第五曝光区域部分重叠设置以形成第三拼接区域,所述第三拼接区域与所述第二拼接区域重合设置;
S8:通过所述第五掩模板对所述玻璃基板的第五曝光区域进行曝光以形成第五曝光层,所述第五曝光层位于所述第三曝光层的上方,通过所述第六掩模板对所述玻璃基板的第六曝光区域进行曝光以形成与所述第五曝光层同层设置的第六曝光层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州华星光电技术有限公司,未经苏州华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210792254.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





