[发明专利]一种可精确调控干涉臂相位的MZI型光开关及制备方法有效

专利信息
申请号: 202210754402.5 申请日: 2022-06-30
公开(公告)号: CN114815330B 公开(公告)日: 2022-10-21
发明(设计)人: 李朝晖;陈鸿飞;傅志豪 申请(专利权)人: 中山大学
主分类号: G02F1/03 分类号: G02F1/03;G02F1/01
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 王晓玲
地址: 510006 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 精确 调控 干涉 相位 mzi 开关 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种可精确调控干涉臂相位的MZI型光开关,其特征在于,包括:

基底层(9);光开关层,所述光开关层设置在所述基底层(9)上,所述光开关层包括由相变可逆材料制成的相变材料薄膜(10),所述相变材料薄膜(10)包括输入区波导(1)、第一分光器(2)、两个输入区S弯曲波导(3)、第一相移区(4)、第二相移区(5)、两个输出区S弯曲波导(6)、第二分光器(7)、输出区波导(8);所述的输入区波导(1)的输出端与第一分光器(2)输入端连接,第一分光器(2)的输出端分别与两个输入区S弯曲波导(3)输入端连接,两个输入区S弯曲波导(3)的输出端分别与第一相移区(4)和第二相移区(5)的输入端连接,第一相移区(4)和第二相移区(5)的输出端分别与两个输出区S弯曲波导(6)的输入端连接,两个输出区S弯曲波导(6)的输出端均与第二分光器(7)的输入端连接,第二分光器(7)的输出端与输出区波导(8)的输入端连接;包覆层(11),所述包覆层(11)设置在所述光开关层上;其中,利用外部激励信号,使相变材料薄膜(10)按照MZI型光开关的结构图形进行晶化,通过改变外部激励信号的能量密度,第二相移区(5)与第一相移区(4)之间的相位差能够在0~π之间转换,以刻画出MZI型光开关的结构;所述的第一相移区(4)的直波导的折射率与输入区波导(1)、第一分光器(2)、两个输入区S弯曲波导(3)、两个输出区S弯曲波导(6)、第二分光器(7)以及输出区波导(8)的折射率相同;所述的第二相移区(5)的直波导的折射率比第一相移区(4)的直波导的折射率大0.1~0.5;所述的第二相移区(5)的直波导与第一相移区(4)的直波导之间的相位差为π;当需要对MZI型光开关的结构进行重构时,利用高能量的外部激励信号将制备好的MZI型光开关上晶化的区域进行去晶化,然后再重复上述进行晶化的过程实现MZI型光开关的重构。

2.根据权利要求1所述的可精确调控干涉臂相位的MZI型光开关,其特征在于,所述的第一相移区(4)和第二相移区(5)是由两条彼此相互平行的直波导干涉臂组成。

3.根据权利要求2所述的可精确调控干涉臂相位的MZI型光开关,其特征在于,所述的输入区S弯曲波导(3)和输出区S弯曲波导(6)均为余弦形函数曲线波导,函数的曲线方程为:y=(1-cosπx/L)•h,其中x为余弦形函数曲线沿波导方向的坐标,y为余弦形函数曲线沿垂直波导方向的坐标,h为余弦弯曲结构在光刻板表面垂直于直波导方向上的投影长度,L为余弦弯曲结构在光刻板表面平行于直波导方向上的投影长度。

4.根据权利要求3所述的可精确调控干涉臂相位的MZI型光开关,其特征在于,当不施加调制光进行相位调制时,光经过第一相移区(4)和第二相移区(5)的直波导之间产生的相位差为π,由第一相移区(4)和第二相移区(5)的直波导出射的两束光干涉相消,输出区波导(8)中无光输出,光开关为off状态;当施加调制光进行相位调制时,通过调制光改变第二相移区(5)的直波导的折射率,使得光经过第一相移区(4)和第二相移区(5)的直波导之间产生的相位差为0,由第一相移区(4)和第二相移区(5)的直波导出射的两束光干涉相长,输出区波导(8)中有光输出,光开关为on状态。

5.根据权利要求1至4任一项所述的可精确调控干涉臂相位的MZI型光开关,其特征在于,所述的输入区波导(1)和输出区波导(8)均为直波导。

6.根据权利要求1至4任一项所述的可精确调控干涉臂相位的MZI型光开关,其特征在于,所述的第一分光器(2)和第二分光器(7)均为50:50分光器。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中山大学,未经中山大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210754402.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top