[发明专利]一种可精确调控干涉臂相位的MZI型光开关及制备方法有效
| 申请号: | 202210754402.5 | 申请日: | 2022-06-30 |
| 公开(公告)号: | CN114815330B | 公开(公告)日: | 2022-10-21 |
| 发明(设计)人: | 李朝晖;陈鸿飞;傅志豪 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
| 主分类号: | G02F1/03 | 分类号: | G02F1/03;G02F1/01 |
| 代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 王晓玲 |
| 地址: | 510006 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 精确 调控 干涉 相位 mzi 开关 制备 方法 | ||
1.一种可精确调控干涉臂相位的MZI型光开关,其特征在于,包括:
基底层(9);光开关层,所述光开关层设置在所述基底层(9)上,所述光开关层包括由相变可逆材料制成的相变材料薄膜(10),所述相变材料薄膜(10)包括输入区波导(1)、第一分光器(2)、两个输入区S弯曲波导(3)、第一相移区(4)、第二相移区(5)、两个输出区S弯曲波导(6)、第二分光器(7)、输出区波导(8);所述的输入区波导(1)的输出端与第一分光器(2)输入端连接,第一分光器(2)的输出端分别与两个输入区S弯曲波导(3)输入端连接,两个输入区S弯曲波导(3)的输出端分别与第一相移区(4)和第二相移区(5)的输入端连接,第一相移区(4)和第二相移区(5)的输出端分别与两个输出区S弯曲波导(6)的输入端连接,两个输出区S弯曲波导(6)的输出端均与第二分光器(7)的输入端连接,第二分光器(7)的输出端与输出区波导(8)的输入端连接;包覆层(11),所述包覆层(11)设置在所述光开关层上;其中,利用外部激励信号,使相变材料薄膜(10)按照MZI型光开关的结构图形进行晶化,通过改变外部激励信号的能量密度,第二相移区(5)与第一相移区(4)之间的相位差能够在0~π之间转换,以刻画出MZI型光开关的结构;所述的第一相移区(4)的直波导的折射率与输入区波导(1)、第一分光器(2)、两个输入区S弯曲波导(3)、两个输出区S弯曲波导(6)、第二分光器(7)以及输出区波导(8)的折射率相同;所述的第二相移区(5)的直波导的折射率比第一相移区(4)的直波导的折射率大0.1~0.5;所述的第二相移区(5)的直波导与第一相移区(4)的直波导之间的相位差为π;当需要对MZI型光开关的结构进行重构时,利用高能量的外部激励信号将制备好的MZI型光开关上晶化的区域进行去晶化,然后再重复上述进行晶化的过程实现MZI型光开关的重构。
2.根据权利要求1所述的可精确调控干涉臂相位的MZI型光开关,其特征在于,所述的第一相移区(4)和第二相移区(5)是由两条彼此相互平行的直波导干涉臂组成。
3.根据权利要求2所述的可精确调控干涉臂相位的MZI型光开关,其特征在于,所述的输入区S弯曲波导(3)和输出区S弯曲波导(6)均为余弦形函数曲线波导,函数的曲线方程为:y=(1-cosπx/L)•h,其中x为余弦形函数曲线沿波导方向的坐标,y为余弦形函数曲线沿垂直波导方向的坐标,h为余弦弯曲结构在光刻板表面垂直于直波导方向上的投影长度,L为余弦弯曲结构在光刻板表面平行于直波导方向上的投影长度。
4.根据权利要求3所述的可精确调控干涉臂相位的MZI型光开关,其特征在于,当不施加调制光进行相位调制时,光经过第一相移区(4)和第二相移区(5)的直波导之间产生的相位差为π,由第一相移区(4)和第二相移区(5)的直波导出射的两束光干涉相消,输出区波导(8)中无光输出,光开关为off状态;当施加调制光进行相位调制时,通过调制光改变第二相移区(5)的直波导的折射率,使得光经过第一相移区(4)和第二相移区(5)的直波导之间产生的相位差为0,由第一相移区(4)和第二相移区(5)的直波导出射的两束光干涉相长,输出区波导(8)中有光输出,光开关为on状态。
5.根据权利要求1至4任一项所述的可精确调控干涉臂相位的MZI型光开关,其特征在于,所述的输入区波导(1)和输出区波导(8)均为直波导。
6.根据权利要求1至4任一项所述的可精确调控干涉臂相位的MZI型光开关,其特征在于,所述的第一分光器(2)和第二分光器(7)均为50:50分光器。
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