[发明专利]一种检测电路及检测线宽刻蚀量的方法、显示装置在审
| 申请号: | 202210748738.0 | 申请日: | 2022-06-28 |
| 公开(公告)号: | CN115050664A | 公开(公告)日: | 2022-09-13 |
| 发明(设计)人: | 金慧俊;王听海 | 申请(专利权)人: | 上海中航光电子有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人: | 高飞 |
| 地址: | 201108 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 检测 电路 刻蚀 方法 显示装置 | ||
本申请实施例提供一种检测电路及检测线宽刻蚀量的方法、显示装置,保险结构包括投影在第一方向至少部分交叠的第一结构和第二结构,第一结构与探测信号线电连接,第二结构与探测模块电连接;多个保险结构中包括第一保险结构和第二保险结构;第一保险结构中,沿第一方向,第一结构靠近第二结构的侧边与第二结构靠近第一结构的侧边之间的距离为L1;第二保险结构中,沿第一方向,第一结构靠近第二结构的侧边与第二结构靠近第一结构的侧边之间的距离为L2;L1≠L2;或L1=L2,第一保险结构与第二保险结构中,一者的第一结构与第二结构相离,另一者的第一结构与第二结构接触。本申请根据各保险结构的通断状态确定线宽刻蚀量的波动值,确定线宽的实际刻蚀量。
【技术领域】
本申请涉及显示技术领域,尤其是涉及一种检测电路及检测线宽刻蚀量的方法、显示装置。
【背景技术】
显示装置的制造过程中需要采用刻蚀工艺,刻蚀质量对显示装置的工作性能具有重大的影响。
在现有的显示装置的制造过程中,由于刻蚀工艺的原因,往往会出现一定的刻蚀偏差,导致线宽的实际刻蚀量与设计的刻蚀量并不相同,从而对显示装置中以线宽数据为参数的工作准确性产生影响。因此,如何获取线宽的实际刻蚀量成为了当前急需解决的问题。
【申请内容】
有鉴于此,本申请实施例提供了一种检测电路及检测线宽刻蚀量的方法、显示装置,以解决上述问题。
第一方面,本申请实施例提供一种检测电路,用于检测线宽刻蚀量;检测电路包括多个保险结构、探测模块及探测信号线;每个保险结构中包括第一结构和第二结构,第一结构在第一方向上的投影与第二结构在第一方向上的投影至少部分交叠;第一结构的输入端与探测信号线电连接,第二结构的输出端与探测模块电连接;多个保险结构中包括第一保险结构和第二保险结构;在第一保险结构中,沿第一方向,第一结构靠近第二结构的侧边与第二结构靠近第一结构的侧边之间的距离为L1;在第二保险结构中,沿第一方向,第一结构靠近第二结构的侧边与第二结构靠近第一结构的侧边之间的距离为L2;其中,L1≠L2;或,L1=L2,且第一保险结构与第二保险结构中,一者的第一结构与第二结构相离,另一者的第一结构与第二结构接触。
在第一方面的一种实现方式中,多个保险结构中还包括第三保险结构,在第三保险结构中,沿第一方向,第一结构靠近第二结构的侧边与述第二结构靠近第一结构的侧边之间的距离为L3;其中,L1≠L3,且L2≠L3。
在第一方面的一种实现方式中,L1与L3之间的差值为0.1μm,L2与L3之间的差值为0.1μm。
在第一方面的一种实现方式中,L3=0。
在第一方面的一种实现方式中,第一保险结构中的第一结构与第二结构相离,第二保险结构中的第一结构与第二结构接触;多个保险结构中还包括第四保险结构和第五保险结构,在第四保险结构中,沿第一方向,第一结构靠近第二结构的侧边与第二结构靠近第一结构的侧边之间的距离为L4;在第五保险结构中,沿第一方向,第一结构靠近第二结构的侧边与第二结构靠近第一结构的侧边之间的距离为L5;其中,L4>L1,L5>L2,并且第四保险结构中的第一结构与第二结构相离,第五保险结构中的第一结构与第二结构接触。
在第一方面的一种实现方式中,L4-L1=0.1μm,L5-L2=0.1μm。
在第一方面的一种实现方式中,第二结构包括沿第一方向排布的第一子结构和第二子结构,第一子结构和第二子结构之间包括开口,第一结构与第一子结构及第二子结构的接触状态相同;在同一保险结构中,沿第一方向,第一结构靠近第一子结构的侧边与第一子结构靠近第一结构的侧边之间的距离为LA;第一结构靠近第二子结构的侧边与第二子结构靠近第一结构的侧边之间的距离为LB;其中,LA=LB。
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