[发明专利]一种检测电路及检测线宽刻蚀量的方法、显示装置在审
| 申请号: | 202210748738.0 | 申请日: | 2022-06-28 |
| 公开(公告)号: | CN115050664A | 公开(公告)日: | 2022-09-13 |
| 发明(设计)人: | 金慧俊;王听海 | 申请(专利权)人: | 上海中航光电子有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人: | 高飞 |
| 地址: | 201108 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 检测 电路 刻蚀 方法 显示装置 | ||
1.一种检测电路,用于检测线宽刻蚀量,其特征在于,所述检测电路包括多个保险结构、探测模块及探测信号线;
每个所述保险结构中包括第一结构和第二结构,所述第一结构在第一方向上的投影与所述第二结构在所述第一方向上的投影至少部分交叠;所述第一结构的输入端与所述探测信号线电连接,所述第二结构的输出端与所述探测模块电连接;
所述多个保险结构中包括第一保险结构和第二保险结构;在所述第一保险结构中,沿所述第一方向,所述第一结构靠近所述第二结构的侧边与所述第二结构靠近所述第一结构的侧边之间的距离为L1;在所述第二保险结构中,沿所述第一方向,所述第一结构靠近所述第二结构的侧边与所述第二结构靠近所述第一结构的侧边之间的距离为L2;
其中,L1≠L2;
或L1=L2,且所述第一保险结构与所述第二保险结构中,一者的第一结构与第二结构相离,另一者的第一结构与第二结构接触。
2.根据权利要求1所述的检测电路,其特征在于,所述多个保险结构中还包括第三保险结构,在所述第三保险结构中,沿所述第一方向,所述第一结构靠近所述第二结构的侧边与所述第二结构靠近所述第一结构的侧边之间的距离为L3;
其中,L1≠L3,且L2≠L3。
3.根据权利要求2所述的检测电路,其特征在于,L1与L3之间的差值为0.1μm,L2与L3之间的差值为0.1μm。
4.根据权利要求2所述的检测电路,其特征在于,L3=0。
5.根据权利要求4所述的检测电路,其特征在于,所述第一保险结构中的第一结构与第二结构相离,所述第二保险结构中的第一结构与第二结构接触;所述多个保险结构中还包括第四保险结构和第五保险结构,在所述第四保险结构中,沿所述第一方向,所述第一结构靠近所述第二结构的侧边与所述第二结构靠近所述第一结构的侧边之间的距离为L4;在所述第五保险结构中,沿所述第一方向,所述第一结构靠近所述第二结构的侧边与所述第二结构靠近所述第一结构的侧边之间的距离为L5;
其中,L4>L1,L5>L2,且所述第四保险结构中的第一结构与第二结构相离,所述第五保险结构中的第一结构与第二结构接触。
6.根据权利要求5所述的检测电路,其特征在于,L4-L1=0.1μm,L5-L2=0.1μm。
7.根据权利要求1所述的检测电路,其特征在于,所述第二结构包括沿所述第一方向排布的第一子结构和第二子结构,所述第一子结构和所述第二子结构之间包括开口,所述第一结构与所述第一子结构及所述第二子结构的接触状态相同;
在同一所述保险结构中,沿所述第一方向,所述第一结构靠近所述第一子结构的侧边与所述第一子结构靠近所述第一结构的侧边之间的距离为LA;所述第一结构靠近所述第二子结构的侧边与所述第二子结构靠近所述第一结构的侧边之间的距离为LB;
其中,LA=LB。
8.根据权利要求1所述的检测电路,其特征在于,所述多个保险结构中的各所述第一结构均与同一所述探测信号线电连接;所述探测模块包括多个第一开关模块及探测电路,各所述保险结构中的第二结构分别与不同的所述第一开关模块的第一端电连接,所述第一开关模块的第二端与所述探测电路电连接,所述探测电路用于探测可以导通的所述保险结构的数量。
9.根据权利要求8所述的检测电路,其特征在于,所述探测电路位于集成电路板中。
10.根据权利要求8所述的检测电路,其特征在于,所述第一开关模块包括第一晶体管,所述第一晶体管的源极与所述第一开关模块的第一端电连接、漏极与所述第一开关模块的第二端电连接。
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