[发明专利]R-T-B系烧结磁体的制造方法在审
申请号: | 202210709610.3 | 申请日: | 2022-06-22 |
公开(公告)号: | CN115602435A | 公开(公告)日: | 2023-01-13 |
发明(设计)人: | 石井伦太郎;国吉太 | 申请(专利权)人: | 日立金属株式会社 |
主分类号: | H01F41/02 | 分类号: | H01F41/02;H01F1/057 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;张岑尧 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 烧结 磁体 制造 方法 | ||
1.一种R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
所述R-T-B系烧结磁体中,R为稀土元素,必须包含选自Nd、Pr和Ce中的至少1种,T为过渡金属的至少1种且必须包含Fe,
所述制造方法包括:
准备R-T-B系烧结磁体用合金的粗粉碎粉的工序;
对粉碎室由不活泼气体充满的喷射磨装置供给所述粗粉碎粉,将所述粗粉碎粉进行粉碎,得到微粉末的工序;和
制作所述微粉末的烧结体的工序,
所述粗粉碎粉中添加有熔点为20℃以上100℃以下的亚磷酸酯。
2.如权利要求1所述的R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
所述亚磷酸酯为下述通式(1)所示的化合物,
R1和R2分别是碳原子数为2以上34以下的脂肪族烃基,
R1的碳原子数与R2的碳原子数的合计为24以上36以下。
3.如权利要求2所述的R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
R1和R2分别是碳原子数为12以上18以下的脂肪族烃基。
4.如权利要求3所述的R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
所述亚磷酸酯必须包含R1和R2分别为C12H25的二月桂基氢亚磷酸酯以及R1和R2分别为C18H35的二油烯基氢亚磷酸酯中的至少一者。
5.如权利要求1~4中任一项所述的R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
所述亚磷酸酯相对于所述粗粉碎粉的添加量以质量比率计为0.02%以上0.2%以下。
6.如权利要求1~5中任一项所述的R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
所述R-T-B系烧结磁体的氧含量为400ppm以上4000ppm以下。
7.如权利要求1~6中任一项所述的R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
所述R-T-B系烧结磁体的R含量为31质量%以下。
8.如权利要求1~7中任一项所述的R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
所述不活泼气体为氮气。
9.如权利要求1~8中任一项所述的R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
包括使重稀土元素RH从所述烧结体的表面扩散到内部的扩散工序,其中,RH为Tb、Dy、Ho中的至少1种。
10.如权利要求1~9中任一项所述的R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
所述得到微粉末的工序中的所述微粉末的平均粒径为2.0μm以上3.5μm以下。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立金属株式会社,未经日立金属株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210709610.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。