[发明专利]超清洁PLD样品制备及转移的系统和方法

权利要求书

1.一种超清洁PLD样品制备及转移的系统，其特征在于，包括：

脉冲激光沉积腔室，所述脉冲激光沉积腔室包括进样舱门和出样舱门，所述脉冲激光沉积腔室上部内置样品托架，所述样品托架下部的一侧设有用于辅助样品固定的挡板，所述样品托架上部设有连杆，所述连杆通过传动装置与电机相连，所述电机和所述传动装置位于所述脉冲激光沉积腔室外，所述传动装置与所述连杆的连接位置处设有密封法兰，所述电机驱动所述样品托架水平旋转；所述脉冲激光沉积腔室还设有激光入射窗口、气体入口和气体出口，所述气体入口与气体供给装置相连；

限位件，所述限位件包括第一限位件、第二限位件和第三限位件，所述第一限位件设在所述连杆外表面，所述第二限位件和所述第三限位件设在所述脉冲激光沉积腔室内且适于与所述第一限位件接触使所述电机停转，所述第一限位件与所述第二限位件接触时，所述挡板与所述进样舱门相对设置且位于所述样品托架上远离所述进样舱门的一侧；所述第一限位件与所述第三限位件接触时，所述挡板与所述出样舱门相对设置且位于所述样品托架上远离所述出样舱门的一侧；

靶材屏蔽盒，所述靶材屏蔽盒内置于所述脉冲激光沉积腔室下部且可周期性移动，所述靶材屏蔽盒顶壁设有偏心通孔，所述靶材屏蔽盒内设有多个沿所述靶材屏蔽盒周向布置的子屏蔽区，多个所述子屏蔽区互不连通且可相对于所述靶材屏蔽盒的顶壁旋转；

激光发射装置，所述激光发射装置适于通过所述激光入射窗口和所述偏心通孔向置于所述子屏蔽区内的靶材发射激光，以便使靶材溅射到置于所述样品托架上的衬底上并沉积薄膜；

真空手套箱，所述真空手套箱包括进样端、出样端和保护气入口，所述进样端与所述出样舱门密封相连；

抽真空设备，所述抽真空设备与所述气体出口和所述真空手套箱相连。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，还包括：控制装置，所述控制装置与所述电机和所述限位件相连，所述控制装置适于在所述第一限位件与所述第二限位件或与所述第三限位件接触时控制所述电机停转。

3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述电机上设有第一齿轮，所述传动装置设有第二齿轮，所述第一齿轮与所述第二齿轮垂直旋转；

任选地，所述第二限位件和所述第三限位件分别独立地设在所述密封法兰的底部。

4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述子屏蔽区的个数为2～5个，所述子屏蔽区的转速不大于50转/分。

5.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述靶材屏蔽盒的顶壁包括至少两层上下布置的金属板，相邻两层所述金属板之间设有密闭夹层，所述密闭夹层的厚度为3～5mm；

任选地，所述金属板为不锈钢板，每层所述金属板的厚度为1.5～2mm。

6.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述真空手套箱的出样端配置有氮气换气清洁装置；

任选地，所述气体供给装置与所述气体入口之间设有流量计和阀门；

任选地，所述气体供给装置包括反应气供给装置、保护气供给装置和杂质气体供给装置中的至少之一。

7.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述气体供给装置包括水汽供给装置，所述水汽供给装置通过微漏阀与所述气体入口相连；

任选地，所述水汽供给装置与抽真空设备相连。