[发明专利]一种直推式取土钻机土壤样品采样深度的修正方法

权利要求书

1.一种直推式取土钻机土壤样品采样深度的修正方法，其特征在于，所述方法包括：

确定真实地层中每层土壤层的厚度；

根据采样回次内土壤样品采集位置至该土壤层层顶的距离、采样回次内土壤样品所在土壤层的厚度以及真实地层中土壤样品所在土壤层的厚度，计算采样回次内土壤样品采集位置到所在土壤层层顶的修正距离；

根据采样回次内土壤样品采集位置到所在土壤层层顶的修正距离、采样回次数、采样回次长度、采样回次内土壤样品所在土壤层层顶到该采样回次起始位置的距离，计算土壤样品的修正采样深度。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述确定真实地层中每层土壤层的厚度的步骤包括：

采用螺纹钻孔螺旋钻进确定真实地层中每层土壤层的厚度。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过下述公式计算采样回次内土壤样品采集位置到所在土壤层层顶的修正距离：

其中，x_i为第i个采样回次内第i个土壤样品采集位置到所在土壤层层顶的修正距离，m′_i为第i个采样回次内第i个土壤样品所在土壤层的厚度，m_i为真实地层中第i个土壤样品所在土壤层的厚度，x′_i为第i个采样回次内第i个土壤样品采集位置至该第i个土壤层层顶的距离。

4.根据根据权利要求3所述的方法，其特征在于，通过下述公式计算后土壤样品的修正采样深度：

d_i＝(n-1)×L+S_i+x_i

其中，d_i为第i个土壤样品的修正采样深度，n为采样回次数，L为第i个采样回次的长度，S_i为第i个采样回次内第i个土壤样品所在第i个土壤层层顶到该采样回次起始位置的距离，x_i为第i采样回次内第i个土壤样品采集位置到所在第i个土壤层层顶的修正距离。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述直推式取土钻机包括多个采样管，一个采样管为一个采样回次。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述采样回次内的土壤样品采样位置与该土壤样品所在采样回次顶部之间存在采空距离。