[发明专利]一种DI光刻机系统

说明书

本发明提供了一种DI光刻机系统，涉及到光刻机领域，包括光源模块、反射模块、透镜模块、驱动模块和平台模块；光源模块包括成对设置的激光源；反射模块包括与每一个激光源对应的反射面，激光源的出射激光经过对应的反射面反射后沿竖直向下的方向出射；透镜模块包括与每一个反射面对应设置的特殊透镜；特殊透镜设置在对应的反射面下方；驱动模块包括与特殊透镜对应的驱动件，用于驱动特殊透镜绕对应的空间轴转动；平台模块包括运动平台，运动平台设置在特殊透镜下方，运动平台具有平动自由度。该DI光刻机系统引入成对设置的激光源并通过特殊透镜对出射激光进行汇聚和改变其焦点位置，可降低光刻机的制造成本。

技术领域

本发明涉及到光刻机领域，具体涉及到一种DI光刻机系统。

背景技术

光刻机是指通过开启灯光发出激光，将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的机器设备，光刻机一般应用于高精度加工领域中，如芯片加工领域，需要利用光刻机将芯片电路转印至晶圆片上。由于国外技术的封锁，我国在光刻机的加工制造领域还处于落后地位，光刻机的加工制作主要涉及到多方面的难题，如激光源的制造、振动消除等。针对所遇到的技术问题，现有技术提出了较多的解决方法。如在激光源的制作方面，申请公布号为CN111610697A的文件公开了一种DI光刻机的LED光学系统，解决了半导体激光器在某些波段功率不足等问题；申请公布号为CN110376851A的文件公开了一种光刻机的光源，采用螺旋状的方式对LED的光路进行修正，得到光束纯正无杂光的光源。

具体的，关于光刻机的实施结构，主要包括掩模曝光结构和直接曝光结构两种实施结构，掩模曝光结构是利用掩模对光线进行选择性的遮挡，采用拓扑的方式进行曝光；而直接曝光结构则是将光束汇集于焦点，通过晶圆片和光束焦点之间的相对位移实现曝光。

基于直接曝光结构的光刻机，现有技术下通常采用光束焦点固定、晶圆片移动的方式进行加工，不可避免的，晶圆片需要进行两轴（平面）以上的运动，这对晶圆片的驱动结构提出了较大的制造难度要求和控制难度要求，不利于降低光刻机的制造成本，影响光刻机的普及使用。

此外，国内在激光源方面的技术积累较为薄弱，高性能激光源主要依赖于进口，不利于降低光刻机的制造成本。

发明内容

为了降低光刻机的制造成本，本发明提供了一种DI光刻机系统，引入成对设置的激光源并通过特殊透镜对出射激光进行汇聚和改变其焦点位置，一方面可提高瞬间的曝光功率，另一方面可简化晶圆片的驱动结构，达到降低光刻机的制造成本的目的。

相应的，本发明提供了一种DI光刻机系统，包括光源模块、反射模块、透镜模块、驱动模块和平台模块；

所述光源模块包括成对设置的激光源，每一对激光源中的两个激光源的出射激光位于同一直线上且方向相向；

所述反射模块包括与每一个激光源对应的反射面，所述激光源的出射激光经过对应的反射面反射后沿竖直向下的方向出射；

所述透镜模块包括与每一个反射面对应设置的特殊透镜，所述特殊透镜的结构为：过一凹透镜的轴线取截面，基于所述出射激光的光束束径对所述截面进行厚度补偿形成实体，所述实体绕一平行于所述凹透镜的轴线的空间轴将所述实体卷曲为圆环状结构，得到所述特殊透镜；

所述空间轴沿竖直方向设置，所述特殊透镜设置在对应的反射面下方；

所述驱动模块包括与所述特殊透镜对应的驱动件，所述驱动件用于驱动所述特殊透镜绕对应的空间轴转动；

在所述特殊透镜绕对应的空间轴转动的过程中，所述特殊透镜对应的反射面所反射的出射激光始终落在所述特殊透镜上；

所述平台模块包括运动平台，所述运动平台设置在所述特殊透镜下方，所述运动平台具有平动自由度。

可选的实施方式，所述激光源模块包括一对激光源；