[发明专利]一种DI光刻机系统

权利要求书

1.一种DI光刻机系统，其特征在于，包括光源模块、反射模块、透镜模块、驱动模块和平台模块；

所述光源模块包括成对设置的激光源，每一对激光源中的两个激光源的出射激光位于同一直线上且方向相向；

所述反射模块包括与每一个激光源对应的反射面，所述激光源的出射激光经过对应的反射面反射后沿竖直向下的方向出射；

所述透镜模块包括与每一个反射面对应设置的特殊透镜，所述特殊透镜的结构为：过一凹透镜的轴线取截面，基于所述出射激光的光束束径对所述截面进行厚度补偿形成实体，所述实体绕一平行于所述凹透镜的轴线的空间轴将所述实体卷曲为圆环状结构，得到所述特殊透镜；

所述空间轴沿竖直方向设置，所述特殊透镜设置在对应的反射面下方；

所述驱动模块包括与所述特殊透镜对应的驱动件，所述驱动件用于驱动所述特殊透镜绕对应的空间轴转动；

在所述特殊透镜绕对应的空间轴转动的过程中，所述特殊透镜对应的反射面所反射的出射激光始终落在所述特殊透镜上；

所述平台模块包括运动平台，所述运动平台设置在所述特殊透镜下方，所述运动平台具有平动自由度。

2.如权利要求1所述的DI光刻机系统，其特征在于，所述激光源模块包括一对激光源；

所述一对激光源包括第一激光源和第二激光源；

所述第一激光源的光束为第一光束，所述第二激光源的光束为第二光束；

与所述第一激光源对应的为第一反射面，与所述第一反射面对应的为第一特殊透镜；

与所述第二激光源对应的为第二反射面，与所述第二反射面对应的为第二特殊透镜。

3.如权利要求2所述的DI光刻机系统，其特征在于，所述第一特殊透镜的空间轴与经过所述第一反射面反射的第一光束确定第一平面；

所述第二特殊透镜的空间轴与经过所述第二反射面反射的第二光束确定第二平面；

所述第一平面和所述第二平面平行。

4.如权利要求3所述的DI光刻机系统，其特征在于，所述运动平台的顶面与所述第一平面和第二平面垂直；

所述运动平台的平动方向平行于所述第一平面和所述第二平面。

5.如权利要求1所述的DI光刻机系统，其特征在于，所述光源模块包括两对以上的激光源。

6.如权利要求5所述的DI光刻机系统，其特征在于，所有反射面均设置在一反射体上。

7.如权利要求5所述的DI光刻机系统，其特征在于，所述反射模块包括反射体和反射驱动结构，所述反射驱动结构驱动所述反射体绕一反射轴线转动；

所述反射体具有一对反射面，所述一对反射面中的两个反射面关于所述反射轴线对称设置；

每一个激光源的出射激光的高度位于所述反射面的最高点和最低点之间。

8.如权利要求1所述的DI光刻机系统，其特征在于，每一个激光源的出射激光均位于同一高度上。

9.如权利要求1所述的DI光刻机系统，其特征在于，所述驱动模块包括摆动电机，所述摆动电机用于驱动所述特殊透镜绕对应的空间轴在预设角度范围内摆动。

10.如权利要求9所述的DI光刻机系统，其特征在于，所述摆动电机为达松乏尔电机。