[发明专利]液晶透镜相位调制装置的制造方法在审

专利信息
申请号: 202210476163.1 申请日: 2019-05-23
公开(公告)号: CN114660854A 公开(公告)日: 2022-06-24
发明(设计)人: 林志展;陈育靖 申请(专利权)人: 源奇科技股份有限公司
主分类号: G02F1/1339 分类号: G02F1/1339;G02F1/1333
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 液晶 透镜 相位 调制 装置 制造 方法
【说明书】:

一种液晶相位调制装置及其制造方法,液晶相位调制装置包含第一基板、第二基板、液晶层以及多个间隔物。第一基板具有第一电极层。第二基板相对于该第一基板,其中第二基板具有第二电极层。液晶层位于第一基板与第二基板之间。间隔物位于第一基板该第二基板之间,其中间隔物位于液晶相位调制装置的主动区。间隔物的分布根据基板的弯曲而设计,从而保持液晶相位调制装置的液晶盒间隙均匀。

本申请是申请日为2019年05月23日、申请号为201910435053.9、发明名称为“液晶相位调制装置及其制造方法”的专利申请的分案申请。

技术领域

本揭露是关于一种液晶透镜相位调制装置的制造方法。

背景技术

电控光学调制器包含光电材料层(例如液晶层),其具有可根据电场调整的折射率。通过设计电极适当的形状,当特定的电压施于其上时,光电材料层的相位差分布可实现各种光学效果。举例而言,光电材料层可模仿光学元件,例如透镜、光栅以及开关。

发明内容

在本揭露的部分实施例中,根据基板的弯曲而设计间隔物的分布,从而保持液晶装置的液晶盒间隙均匀。此外,间隔物的形状经过设计,而对摩擦处理的影响较小,如此一来,经摩擦的配向层可以有效地对液晶分子配向。

根据本揭露的部分实施方式,一种液晶相位调制装置包含第一基板、第二基板、液晶层以及多个间隔物。第一基板具有第一电极层。第二基板相对于该第一基板,其中第二基板具有第二电极层。液晶层位于第一基板与第二基板之间。间隔物位于第一基板与第二基板之间,其中间隔物位于液晶相位调制装置的主动区。

于部分实施方式中,间隔物包含第一间隔物、第二间隔物以及第三间隔物,第二间隔物紧邻第一间隔物与第三间隔物,且第一间隔物与第二间隔物的距离不同于第二间隔物与第三间隔物的距离。

于部分实施方式中,液晶相位调制装置还包含封胶,位于第一基板与第二基板之间且环绕液晶层。第一基板具有第一区以及第二区,且第一区相较于第二区更靠近封胶,在第二区内的间隔物的密度大于第一区内的间隔物的密度。

于部分实施方式中,第一电极层包含多个电极,电极位于主动区中,且第二电极层覆盖主动区。

于部分实施方式中,第一基板还包含第一底基板以及第一介电层。第一底基板具有表面,其中第一电极层设置于第一底基板的表面。第一介电层位于液晶层与第一电极层之间,其中间隔物位于第一介电层以及第二基板之间。

于部分实施方式中,第一电极层包含多个第一电极,位于主动区,且第二电极层包含多个第二电极,位于主动区。

于部分实施方式中,第一基板还包含第一底基板以及第一介电层。第一底基板具有表面,其中第一电极层设置于第一底基板的表面。第一介电层位于液晶层与第一电极层之间,其中间隔物位于第一介电层以及第二基板之间。第二基板还包含第二底基板以及第二介电层。第二底基板具有表面,其中第二电极层设置于第二底基板的表面。第二介电层位于液晶层与第二电极层之间,其中间隔物位于第一介电层以及第二介电层之间。

于部分实施方式中,第一基板还包含配向层,位于液晶层与第一电极层之间,其中间隔物的至少一者具有长轴,长轴处于配向层的配向方向上。

于部分实施方式中,间隔物的所述至少一者于配向方向上逐渐变细。

于部分实施方式中,第二基板还包含配向层,位于液晶层与第二电极层之间,其中间隔物的至少一者具有长轴,长轴处于配向层的配向方向上。

根据本揭露的部分实施方式,液晶相位调制装置包含第一基板、第二基板、液晶层以及至少一间隔物。第二基板相对于第一基板。液晶层位于第一基板与第二基板之间,其中第一基板与第二基板至少一者包含配向层,配向层邻近于液晶层。间隔物位于第一基板与第二基板之间,其中间隔物具有长轴,长轴处于配向层的配向方向上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于源奇科技股份有限公司,未经源奇科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210476163.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top