[发明专利]彩膜基板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202210457046.0 申请日: 2022-04-27
公开(公告)号: CN114740560A 公开(公告)日: 2022-07-12
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G09F9/30;G02F1/1335
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 杨瑞
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 彩膜基板 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种彩膜基板,其特征在于,包括:

衬底;

设置于所述衬底上方的彩色滤光层,所述彩色滤光层包括间隔设置的阻挡部、设置于相邻所述阻挡部之间的色阻部、设置于所述阻挡部远离所述衬底一侧表面的遮光部;

其中,所述阻挡部的制备材料为透明材料。

2.如权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,在膜厚方向上,所述阻挡部覆盖所述遮光部设置。

3.如权利要求2所述的彩膜基板,其特征在于,所述阻挡部朝向所述遮光部一侧表面的表面积,大于所述遮光部朝向所述阻挡部一侧表面的表面积。

4.如权利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,相邻所述阻挡部之间形成有凹槽,所述色阻部包括位于所述凹槽内的第一部分、与所述第一部分相连的第二部分,所述第二部分设置于所述阻挡部朝向所述遮光部一侧表面。

5.如权利要求4所述的彩膜基板,其特征在于,所述第二部分与所述遮光部连接,所述遮光部的制备材料为疏水性材料。

6.如权利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,沿膜厚方向的任一截面内,所述阻挡部的截面宽度大于所述遮光部的截面宽度。

7.如权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述阻挡部的折射率大于所述色阻部的折射率。

8.如权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述阻挡部的表面接触角大于50度,所述阻挡部的透过率范围为75%至90%。

9.如权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述阻挡部的制备材料为疏水性材料,所述阻挡部包括第一阻挡件、第二阻挡件,所述第二阻挡件至少覆盖所述第一阻挡件朝向所述色阻部的表面,所述第二阻挡件的疏水性强于所述第一阻挡件的疏水性。

10.一种彩膜基板制备方法,其特征在于,包括:

提供一衬底;

在所述衬底上方涂布一层透明光阻材料,对所述透明光阻材料进行黄光工艺,制备得到间隔排布的阻挡部;

在所述阻挡部远离所述衬底的一侧表面制备得到遮光部;

在相邻阻挡部之间通过喷墨打印的方式制备得到色阻部。

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