[发明专利]彩膜基板、显示面板及彩膜基板的制备方法

权利要求书

1.一种彩膜基板，包括衬底基板、和设置在所述衬底基板上的黑色矩阵和彩色滤光层，其特征在于，

所述彩色滤光层包括至少两个色阻，所述黑色矩阵设置在相邻两个所述色阻之间，所述黑色矩阵的两侧设置有台阶面，形成凸字形结构，且所述色阻覆盖在所述台阶面上，与所述台阶面具有重叠部；

所述黑色矩阵的高度为1.8μm～3μm，所述色阻的高度与所述黑色矩阵的高度相同；所述黑色矩阵的截面宽度设置为20μm～30μm，所述黑色矩阵两侧的所述台阶面的宽度相同，所述台阶面的截面宽度设置为3μm～6μm；所述黑色矩阵包括凸出部，所述凸出部位于两侧的所述台阶面之间，两个所述台阶面的高度相等，所述台阶面的高度设置为0.5μm～1.2μm，且所述凸出部的高度比所述台阶面的高度高0.1μm～1.3μm；

所述凸出部的两侧为斜面，位于所述凸出部底部的所述黑色矩阵的两侧为斜面，且所述凸出部的斜面倾斜角度大于位于所述凸出部底部的所述黑色矩阵的斜面倾斜角度；

所述彩膜基板还包括隔垫物，所述隔垫物直接设置在所述黑色矩阵上；

所述隔垫物与所述黑色矩阵的中心线对齐，所述隔垫物底端的截面宽度大于所述凸出部的截面宽度；在涂布第一色阻材料时，将第一色阻材料在所述台阶面上形成的重叠部的宽度设置为2μm～5μm，使得所述第一色阻材料与所述台阶面之间形成一定的间隙。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括金属氧化物层，所述金属氧化物层设置在所述衬底基板远离所述黑色矩阵的一侧，且所述金属氧化物层与所述彩色滤光层中的至多两种色阻所在的区域重叠。

3.一种显示面板，其特征在于，包括阵列基板、液晶层和如权利要求1至2任意一项所述的彩膜基板，所述阵列基板和所述彩膜基板对盒设置，所述液晶层设置在所述阵列基板和所述彩膜基板之间。

4.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，用于制备如权利要求1至2任意一项所述的彩膜基板，包括步骤：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上形成多个截面形状为凸字形的黑色矩阵，且形成的所述黑色矩阵的两侧具有台阶面；以及

在所述黑色矩阵上依次形成多个位于相邻两个所述黑色矩阵之间的色阻，且形成的所述色阻覆盖在所述台阶面上，以形成彩色滤光层，并在所述彩色滤光层上形成隔垫物，以得到彩膜基板。

5.根据权利要求4所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述在所述黑色矩阵上依次形成多个位于相邻两个所述黑色矩阵之间的色阻，且形成的所述色阻覆盖在所述台阶面上，以形成彩色滤光层，并在所述彩色滤光层上形成隔垫物，以得到彩膜基板的步骤包括：

在相邻两个所述黑色矩阵之间分别涂布第一色阻材料，且涂布的所述第一色阻材料覆盖在所述台阶面上形成重叠部，形成的所述重叠部的宽度小于所述台阶面的截面宽度；

对所述第一色阻材料进行真空干燥操作，且真空干燥的时间为40min～50min，以使所述第一色阻材料流淌并填满所述台阶面，形成第一色阻；

参照形成所述第一色阻的步骤，分别形成多个第二色阻和多个第三色阻，以形成彩色滤光层；以及

在所述彩色滤光层上方直接形成隔垫物，且形成的所述隔垫物与所述黑色矩阵位置对应，以得到彩膜基板。