[发明专利]一种新型温湿度MEMS传感器及其制备方法在审
申请号: | 202210374204.6 | 申请日: | 2022-04-11 |
公开(公告)号: | CN114838761A | 公开(公告)日: | 2022-08-02 |
发明(设计)人: | 喻宏远;王韬;刘伟 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | G01D21/02 | 分类号: | G01D21/02;G01D5/241;G01D5/16;G01K7/18;G01N27/22;B81C1/00;B81B7/02 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 甘茂 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 温湿度 mems 传感器 及其 制备 方法 | ||
本发明属于传感器技术领域,涉及温湿度传感器,具体提供一种新型温湿度MEMS传感器及其制备方法;器件包括:SOI衬底及其上的ALN保护层、金属Mo薄膜层、SiO2温度补偿层及导电金属层,金属Mo薄膜层包括加热电阻与测温电阻;湿度传感时,加热电阻作为内置加热层能够在降湿过程中加快脱湿,减小器件的湿滞,增大器件的灵敏度;温度传感时,内置测温电阻缩短了传热路径,响应时间会更短,会更加灵敏;另外,金属Mo与CMOS工艺兼容,与其他传感器的制作工艺能较好地兼容,且制备工艺简单、制备成本低;综上,本发明具有更好的稳定性和兼容性,增强了测试精度和灵敏性,减小了器件尺寸,提高了集成度,适用环境范围更加广泛。
技术领域
本发明属于传感器技术领域,涉及温湿度传感器,具体提供一种新型温湿度MEMS传感器及其制备方法。
背景技术
湿度传感器作为一类实时监测湿度变化的传感器,在环境监测、化学医药、电子工业以及生物学等领域应用广泛;而随着集成电路技术和微机电技术的快速发展,湿度传感器日益微型化、集成化和多功能化,在现代军事、微电子器件、微机电系统和航空航天等科技前沿领域也占据着举足轻重的地位。
电容式湿度传感器作为目前应用最为广泛的一类湿度传感器,有着结构简单、工艺成熟、灵敏度高等优点,电容式湿度传感器典型结构有平行板结构和叉指结构;其中,叉指结构最为常见,其基本原理是在高分子膜刻蚀电极,高分子膜通常都具有较低的介电常数的特性,而水分子的介电常数大约在80左右,当周围环境中的水分子进入湿度敏感材料后,湿度敏感材料的介电常数会大幅增大,所以电容式湿度传感器的检测电容值也随之增加;通过外围电路检测电容信号,辅以湿度与电信号一一对应的关系,便可得到环境湿度的表征数值。
MEMS温度传感器的基本原理为:环境温度的变化使得不同热涨系数的材料产生了程度不同的形变,改性别能够改变其材料内部的电阻率或者改变微平板电容的电容值,从而产生了电学信号的变化。
然而,上述传感器仍然存在部分缺陷:传感器尺寸过大,不利于部分场景下智能产品的整体尺寸控制;其次,在实际生活中,温度与湿度常常紧密联合,互相影响,需要复合温湿测量功能的便捷实用设计;最后,部分带有温湿测量功能的设计复杂且不能有效兼容CMOS工艺,导致器件性能精度有所下降。。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术中温湿度传感器所存在的问题,提供一种新型温湿度MEMS传感器及其制备方法;本发明提供的温湿度MEMS传感器具有更好的稳定性和兼容性,增强了传感器的测试精度和灵敏性,有效减小了器件尺寸,显著提高了集成度,在生产上有助于实现器件的批量化生产,可适用范围环境也更加广泛。
为实现上述目的,本发明采用的技术方案如下:
一种新型温湿度MEMS传感器,包括:SOI衬底、设置于SOI衬底上的ALN保护层、设置于ALN保护层上的金属Mo薄膜层、设置于金属Mo薄膜层上的SiO2温度补偿层、以及设置于SiO2温度补偿层上的导电金属层;其中,所述金属Mo薄膜层包括:加热电阻与测温电阻,所述加热电阻为中心对称的四个蛇形结构电阻丝串联而成,所述测温电阻为中心对称的两个“之”字形薄膜电阻串联而成,且测温电阻位于加热电阻外围;所述导电金属层包括:中心对称的四个叉指电容,四个叉指电容并联、且叉指电容与蛇形结构钼薄膜电阻丝一一正对设置。
进一步的,所述金属Mo薄膜层的厚度为0.1~0.3um,所述蛇形结构电阻丝由多根电阻丝首尾Z型环绕而成,所述“之”字形薄膜电阻的宽度为12~18um、长度为180~220um。
进一步的,所述AlN保护层的厚度为0.8~1.2um。
进一步的,所述SiO2温度补偿层的厚度为0.5~2um,且SiO2温度补偿层中预设位置设置有金属化通孔,用于实现垂直互联将金属Mo薄膜层的连接端引出至导电金属层(金属焊盘处)。
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