[发明专利]碳非接触还原三氧化钼制备钼粉的方法

权利要求书

1.碳非接触还原三氧化钼制备钼粉的方法，其特征在于，包括：

在反应容器中铺设用1000目筛网过筛后的活性炭粉至第一厚度，形成厚度为10mm的活性炭粉料层；所述活性炭粉的平均粒度为5～100nm，纯度不小于99％；

在所述活性炭粉料层上方第一高度的位置设置筛网，并在所述筛网上铺设三氧化钼粉至第二厚度，形成厚度为10～30mm的三氧化钼粉料层；所述第一高度不大于10mm；所述三氧化钼粉的平均粒径为5～10μm，纯度不小于99.9％；

将所述活性炭粉料层与所述三氧化钼粉料层设置在惰性气体或真空保护下进行两段式还原，得到金属钼粉；

其中，所述两段式还原包括在第一还原温度600～680℃下的一段还原和在第二还原温度1000～1200℃下的二段还原。

2.根据权利要求1所述的碳非接触还原三氧化钼制备钼粉的方法，其特征在于，所述一段还原的时间设定为2～4h。

3.根据权利要求1所述的碳非接触还原三氧化钼制备钼粉的方法，其特征在于，所述二段还原的时间设定为2～4h。

4.根据权利要求1所述的碳非接触还原三氧化钼制备钼粉的方法，其特征在于，所述反应容器为长方形氧化铝坩埚。

5.金属钼粉，其特征在于，所述金属钼粉形貌近似球形，由权利要求1～4任一项所述的碳非接触还原三氧化钼制备钼粉的方法制备得到。