[发明专利]一种微针及其制造工艺

权利要求书

1.一种微针的制造工艺，其特征在于，包括如下步骤：

a)开口：在衬底(1)的顶面刻蚀若干个内凹部(11)；

b)成膜：在衬底(1)的顶面生成针体膜层(2)，同时使部分所述针体膜层(2)沉入各个内凹部(11)之中并分别形成空心下沉结构(21)或实心下沉结构(22)；

c)开孔：当形成空心下沉结构(21)时，打磨衬底(1)的底面直至向上磨穿各个空心下沉结构(21)的底部并形成中空通道(23)；当形成实心下沉结构(22)时，在各个实心下沉结构(22)的顶面分别进行刻蚀直至贯穿衬底(1)的底面并形成中空通道(23)；

d)去衬：去除衬底(1)。

2.如权利要求1所述的一种微针的制造工艺，其特征在于：在步骤a)之中，所述衬底(1)为玻璃衬底。

3.如权利要求1所述的一种微针的制造工艺，其特征在于：在步骤a)之中，各个所述内凹部(11)均呈倒锥形，各个所述内凹部(11)均采用光胶刻蚀技术或无掩模刻蚀技术而刻蚀得到。

4.如权利要求1所述的一种微针的制造工艺，其特征在于：在步骤b)之中，所述针体膜层(2)由纯金属薄膜或合金薄膜镀设形成。

5.如权利要求4所述的一种微针的制造工艺，其特征在于：所述纯金属薄膜为化学气相沉积的钨薄膜或钛薄膜。

6.如权利要求1所述的一种微针的制造工艺，其特征在于：在步骤c)之中，当形成实心下沉结构(22)时，各个所述中空通道(23)均采用光胶刻蚀技术或无掩模刻蚀技术而刻蚀得到。

7.如权利要求1所述的一种微针的制造工艺，其特征在于：在步骤c)之中，各个所述中空通道(23)的长度均为100～1500μm，直径均为1～200μm。

8.如权利要求1所述的一种微针的制造工艺，其特征在于：在步骤d)之中，所述衬底(1)通过化学腐蚀洗去。

9.如权利要求1所述的一种微针的制造工艺，其特征在于：还包括步骤e)后处理：在空心下沉结构(21)或实心下沉结构(22)之外通过物理溅射或电镀生成纳米级金薄膜涂层。

10.一种微针，其特征在于：由权利要求1至9中任一项所述的制造工艺制造而得。