[发明专利]OLED显示面板、OLED显示屏及制备方法

权利要求书

1.一种OLED显示面板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

提供一已形成有像素阵列的基板；

在基板上依次形成阳极层、辅助电极层、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层；

去除所述辅助电极层所在区域上方的所有膜层，并形成通孔；

向所述通孔内导入导电粒子，并在所述通孔的底部形成微导电层；

在所述电子注入层上以及所述通孔与所述微导电层所构成的空间内形成阴极层，所述阴极层通过微导电层与所述辅助电极层电性连接。

2.如权利要求1所述的OLED显示面板的制备方法，其特征在于，在所述向所述通孔内导入导电粒子，并在所述通孔的底部形成微导电层之前，所述方法包括：

在所述电子注入层上方采用光罩对除所述通孔所在区域的其他区域进行遮挡，暴露出所述通孔。

3.如权利要求2所述的OLED显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述通孔内导入导电粒子，并在所述通孔的底部形成微导电层，包括：

通过溅射方式或者真空蒸镀方式在所述通孔内导入导电粒子，并在所述通孔的底部形成微导电层。

4.如权利要求3所述的OLED显示面板的制备方法，其特征在于，所述微导电层的厚度为所述通孔的深度的1/10～3/10。

5.如权利要求4所述的OLED显示面板的制备方法，其特征在于，所述导电粒子包括铝粒子、银粒子、镁粒子或者其中任意两者构成的合金粒子。

6.如权利要求1所述的OLED显示面板的制备方法，其特征在于，所述去除所述辅助电极层所在区域上方的所有膜层，并形成通孔，包括：

采用激光打孔方式去除所述辅助电极层所在区域上方的所有膜层，并形成所述通孔。

7.如权利要求1所述的OLED显示面板的制备方法，其特征在于，所述在基板上依次形成阳极层、辅助电极层、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层，包括：

采用喷墨打印方式依次形成空穴注入层、空穴传输层和发光层。

8.如权利要求1所述的OLED显示面板的制备方法，其特征在于，所述在基板上依次形成阳极层、辅助电极层、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层，包括：

采用真空蒸镀方式依次形成电子传输层和电子注入层。

9.一种OLED显示面板，其特征在于，所述OLED显示面板采用的是如权利要求1至权利要求8所述的OLED显示面板的制备方法制成。

10.一种OLED显示屏，其特征在于，所述OLED显示屏采用的是如权利要求9所述的OLED显示面板。