[发明专利]一种挡板装置和曝光机

说明书

本发明公开了一种挡板装置和曝光机，具体涉及曝光机技术领域，包括挡板机构，所述挡板机构包括透光框，透光框的外壁一体成型有呈对称分布的两个卡框，所述透光框、卡框中开设有卡穿槽，所述卡穿槽中滑动卡设有紧密接触的多个挡光框，所述卡框的内上壁固定安装有和挡光框对应的卡座，所述卡座位于对应卡框中，所述卡座的底部固定卡设有内螺管，所述内螺管的中部均螺纹插设有调节螺杆，所述调节螺杆转动卡接在对应卡框中，所述挡光框顶端远离卡框的一侧开设有凹槽，本发明，通过设置挡板机构，灵活改变多个挡光框在透光区域的面积，进而灵活改变光照射区域的面积，从而控制光照射区域的面积，实现部分曝光，并提升了整个挡板装置的挡光灵活性。

技术领域

本发明涉及曝光机技术领域，具体为一种挡板装置和曝光机。

背景技术

在光刻技术中，曝光机一般包括光源、掩模版以及透镜；掩模版是一种表面被各种图案覆盖的玻璃板，光源通过掩模版可将图案投射到涂有光刻胶的晶片上，生成三维的浮雕图案，用于辅助在晶片上刻蚀电路图案。

在实际使用过程中，有将掩模版上的图案部分投射的需求，即进行部分曝光，因此，可以在掩模版和晶片之间加设挡板，将不需要进行曝光的部分用挡板遮住以阻挡光线透过，而将光线限制在需要曝光的部分，通过挡板来控制光照射区域的面积，从而可以实现部分曝光；

然而现有的挡板装置和曝光机，结构相对简单，无法根据需求灵活调节控制光照射区域的面积，影响了整个曝光机的使用效果，为此，我们提出一种挡板装置和曝光机用于解决上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种挡板装置和曝光机，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种挡板装置，包括挡板机构，所述挡板机构包括透光框，所述透光框的外壁一体成型有呈对称分布的两个卡框，所述透光框、卡框中开设有卡穿槽，所述卡穿槽中滑动卡设有紧密接触的多个挡光框，所述卡框的内上壁固定安装有和挡光框对应的卡座，所述卡座位于对应卡框中，所述卡座的底部固定卡设有内螺管，所述内螺管的中部均螺纹插设有调节螺杆，所述调节螺杆转动卡接在对应卡框中，所述挡光框顶端远离卡框的一侧开设有凹槽，所述凹槽中固定卡设有吸光框，所述吸光框的外壁和挡光框的内壁接触。

作为本发明的一种优选技术方案，所述调节螺杆靠近卡座的一侧端部穿过挡光框，所述调节螺杆靠近卡座的一侧端部固定安装有转轮。

作为本发明的一种优选技术方案，所述透光框呈口型结构，所述透光框中部为透光区域，所述挡光框远离卡框的一侧延伸进透光区域中。

一种曝光机，包括外防护框，所述挡板装置通过两侧卡框固定卡接在外防护框的中部，所述外防护框的底部设有输料组件，所述输料组件的中部设有起料组件，所述起料组件的顶端设有晶片板，所述外防护框的内上壁中部固定安装有顶架，所述顶架的底端固定安装有曝光机构，所述挡板装置和曝光机构的位置竖直对应。

作为本发明的一种优选技术方案，所述输料组件包括输料侧框，所述输料侧框设有呈对称分布的两个，所述输料侧框的底端固定安装有输料架，所述输料架固定安装在外防护框的内下壁，两个所述输料侧框之间转动卡设有等距离分布的多个输料辊，所述输料辊的端部延伸进对应输料侧框中并固定套设有皮带轮，多个所述皮带轮的外侧活动套设有传动皮带。

作为本发明的一种优选技术方案，所述起料组件包括起料底板，所述起料底板位于多个输料辊下方，所述起料底板的四角处均一体成型有起料架，所述起料架的顶部穿过输料辊，所述起料架的顶端固定安装有防护垫，所述晶片板的底端和防护垫的顶端接触，所述起料架的底端开设有伸缩槽，所述伸缩槽的底部活动卡设有底柱，所述底柱的顶端和伸缩槽的内上壁之间固定安装有弹簧，所述底柱的底端固定安装在外防护框的内下壁。