[发明专利]显示装置在审

专利信息
申请号: 202210285466.5 申请日: 2022-03-22
公开(公告)号: CN115132786A 公开(公告)日: 2022-09-30
发明(设计)人: 裵光洙;李震龙;朴光雨;崔相现;崔千基 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 史迎雪;康泉
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示装置,包括:

薄膜晶体管,设置在基板之上;

平坦化层,设置在所述薄膜晶体管之上;

像素电极,设置在所述平坦化层之上,并且通过提供在所述平坦化层中的接触孔电连接到所述薄膜晶体管;

像素限定层,覆盖所述像素电极的边缘,以暴露所述像素电极的中心部分;以及

堤,被布置成与所述像素限定层隔开,并且被设置在所述像素电极的被所述像素限定层暴露的所述中心部分的一部分之上,当在与所述基板垂直的方向上观看时,所述堤与所述接触孔重叠。

2.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述接触孔被布置在所述像素电极的被所述像素限定层暴露的所述中心部分的中心处。

3.根据权利要求2所述的显示装置,其中,在所述接触孔的一侧所述平坦化层的上表面相对于所述基板的倾斜方向与在所述接触孔的另一侧所述平坦化层的所述上表面相对于所述基板的倾斜方向相反。

4.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述平坦化层的在所述像素限定层之下的一部分的厚度大于所述平坦化层的在所述堤之下的另一部分的厚度。

5.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述像素电极的在所述像素限定层之下的一部分的厚度大于所述像素电极的在所述堤之下的另一部分的厚度。

6.根据权利要求1所述的显示装置,其中,当在与所述基板垂直的所述方向上观看时,所述堤的面积大于所述接触孔的面积。

7.根据权利要求1所述的显示装置,进一步包括:

对电极,一体地形成为单个主体,并且设置在所述像素限定层和所述堤之上。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的显示装置,进一步包括:

遮光层,设置在所述像素限定层之上,并且包括当在与所述基板垂直的所述方向上观看时与所述像素电极的被所述像素限定层暴露的所述中心部分重叠的开口;以及

堤遮光层,设置在所述堤之上,并且当在与所述基板垂直的所述方向上观看时与所述堤重叠。

9.根据权利要求8所述的显示装置,其中,所述堤遮光层包括吸收可见光的材料。

10.一种显示装置,包括:

第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管,设置在基板之上;

平坦化层,设置在所述第一薄膜晶体管和所述第二薄膜晶体管之上;

第一像素电极,设置在所述平坦化层之上,并且通过限定在所述平坦化层中的第一接触孔电连接到所述第一薄膜晶体管;

第二像素电极,设置在所述平坦化层之上,并且通过提供在所述平坦化层中的第二接触孔电连接到所述第二薄膜晶体管;

像素限定层,覆盖所述第一像素电极的边缘、所述第二像素电极的边缘以及所述第二像素电极的与所述第二接触孔重叠的部分,以暴露所述第一像素电极的与所述第一接触孔重叠的部分、所述第一像素电极的中心部分以及所述第二像素电极的中心部分;以及

堤,被布置成与所述像素限定层隔开,并且被设置在所述第一像素电极的被所述像素限定层暴露的所述中心部分的一部分之上,当在与所述基板垂直的方向上观看时,所述堤与所述第一接触孔重叠。

11.根据权利要求10所述的显示装置,其中,所述第一接触孔被布置在所述第一像素电极的被所述像素限定层暴露的所述中心部分的中心处。

12.根据权利要求11所述的显示装置,其中,在所述第一接触孔的一侧所述平坦化层的上表面相对于所述基板的倾斜方向与在所述第一接触孔的另一侧所述平坦化层的所述上表面相对于所述基板的倾斜方向相反。

13.根据权利要求10所述的显示装置,其中,所述平坦化层的在所述像素限定层之下的一部分的厚度大于所述平坦化层的在所述堤之下的另一部分的厚度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210285466.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top