[发明专利]一种抗污纳米易洁液及其制备方法、抗污纳米易洁陶瓷的制备方法

权利要求书

1.一种抗污纳米易洁液，其特征在于，按照重量份数，包括40~80份小分子有机硅氧烷、10~40份羟基硅油、5~40份乙醇硅溶胶、0.1~5份催化剂、5~30份异氰酸酯硅烷、10~40份巯基硅烷偶联剂；所述巯基硅烷偶联剂选自3-巯丙基三甲氧基硅烷和/或3-巯丙基三乙氧基硅烷；所述小分子有机硅氧烷选自六甲基二硅氧烷、六甲基二硅氮烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷中的至少一种；所述乙醇硅溶胶的粒径为5~10nm。

2.根据权利要求1所述的抗污纳米易洁液，其特征在于，所述催化剂选自有机铋DY-20、月桂酸铋、异辛酸铋、二月桂酸二丁基锡中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的抗污纳米易洁液，其特征在于，所述异氰酸酯硅烷为3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷和/或3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷。

4.一种抗污纳米易洁液的制备方法，其特征在于，用于制备权利要求1~3任一项所述的抗污纳米易洁液，包括以下步骤：将小分子有机硅氧烷、羟基硅油、乙醇硅溶胶、催化剂、巯基硅烷偶联剂添加到反应釜中，在搅拌条件下加热至50~70℃，反应1~2小时；之后再往体系中加入异氰酸酯硅烷，再搅拌0.5-3小时，冷却后即可得到抗污纳米易洁液。

5.一种抗污纳米易洁陶瓷的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、将权利要求1~3任一项所述的抗污纳米易洁液涂覆于陶瓷基体表面，形成均匀的涂层；

S2、对抗污纳米易洁液进行烘烤处理使其固化，得到抗污纳米易洁陶瓷。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述涂覆为喷涂或擦涂；所述涂层的厚度为0.1~5μm。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述烘烤处理的温度为150~280℃，烘烤处理的时间为2~40分钟。