[发明专利]一种电镀废水回用设备

说明书

本发明涉及废水处理相关技术领域，且公开了一种电镀废水回用设备，包括处理罐，所述处理罐的内壁活动安装有支撑架，且处理罐的内腔呈椭圆形，所述支撑架的表面活动安装有净化块，且净化块的顶端设置有橡胶头。本发明通过设置有驱动线圈和驱动磁块，并同时设置有排液杆，因而废物沉淀时，通过净化块下移时会使得驱动线圈产生与驱动磁块相斥的磁力并使其净化块快速顶起，其顶起会使得净化块中的废物超重下沉，从而增加其废物的沉淀速率，并通过排液杆可使得处理罐内腔中的气流缓慢流出，从而使得净化块中的废液在恢复时降低因失重而导致沉淀废物上移的现象，如此循环，最终实现加快废物沉淀速率的目的。

技术领域

本发明涉及废水处理相关技术领域，具体为一种电镀废水回用设备。

背景技术

电镀废水通常含有多种有毒物质，不仅对于环境的危害较大，而且氰可引起人畜急性中毒、致死，镉可使肾脏发生病变，六价铬可引起肺癌、肠胃道疾病和贫血，因此，电镀废水的排放必须严格控制，妥善处理。

现有的电镀废水通过化学沉淀的方法主要通过化学药剂置于电镀废水中，并通过搅拌反应后使得电镀废水中出现沉淀，实现对电镀废水的处理，而在实际运用的过程中，沉淀虽能大幅度的实现废物分离，但其所需周期较长，致使其废水处理所消耗的时长增加，另一方面，沉淀设备中会由于沉淀物的附着，不仅不易于处理，还影响着后续的使用，而通过现有外置的清洗设备还需增加其运用的成本及其自主清洗所需的时间，因而，不利于企业对废水的快速处理。

发明内容

针对背景技术中提出的现有电镀废水处理设备在使用过程中存在的不足，本发明提供了一种电镀废水回用设备，具备实现加快废物沉淀速率的优点，解决了上述背景技术中提出的技术问题。

本发明提供如下技术方案：一种电镀废水回用设备，包括处理罐，所述处理罐的内壁活动安装有支撑架，且处理罐的内腔呈椭圆形，所述支撑架的表面活动安装有净化块，且净化块的顶端设置有橡胶头，所述处理罐的顶端表面一侧固定安装废液管，且处理罐的顶端表面固定安装有进液管，所述处理罐的顶端中部开设有用于实现处理罐内腔中压力均衡的缓气孔，所述净化块的内壁底部一侧固定安装有用于实现缓慢释放压力的排液杆，所述支撑架的表面一侧开设有与排液杆内腔相通的输气道，且支撑架的底端中部固定安装有驱动磁块，所述处理罐底部内壁的中部固定安装有用于实现间断接通的驱动线圈，且驱动线圈与驱动磁块磁力相斥。

优选的，所述净化块的侧壁固定安装有转动推块，且处理罐的内壁固定活动安装有与转动推块适配的转动拨块，所述转动拨块的一端固定安装有复位弹簧，且复位弹簧的一端与处理罐的内壁固定安装，实现转动拨块与转动推块配合实现净化块上移时进行转动，所述净化块的底端开设有形状呈C形的输料槽，所述净化块的内壁底部固定安装有搅拌棒，且搅拌棒的顶端开设有排污口，所述搅拌棒的侧壁为网孔状，所述搅拌棒数量至少为四个，且搅拌棒的内腔与输料槽相通，所述支撑架的底端固定安装有与输气道内腔相通的复位杆，所述复位杆的底部设置有用于实现复位杆内腔向处理罐内腔气流单向流动的防逆球，且净化块与支撑架之间相对转动实现输气道可选择的与输料槽或排液杆相通。

优选的，所述支撑架的中部开设有向支撑架侧壁流通的排污道，所述处理罐的侧壁底部固定安装有用于实现排污道中废物排出的排污管。

优选的，所述处理罐的内壁设置有倾斜的复位面，且处理罐内壁一侧开设有位于复位面低侧的连通道，所述处理罐的底部一侧螺纹连接有与连通道相通的放液盖，且放液盖的内壁活动安装有进气挡球，所述放液盖的侧壁固定安装有用于通过放液盖与处理罐之间的螺纹拧入量实现与连通道间进行通断的排液管，所述支撑架置于处理罐内腔最低端时进气挡球与防逆球贴合实现复位杆与放液盖相通。

优选的，所述支撑架的侧壁固定安装有导电片，所述处理罐的内壁底部一侧固定安装有与导电片适配的传电拨片，且导电片的一端通过导线连通外部的电源，所述传电拨片的一端连接有保护电阻，保护电阻电连接有接触器组，接触器的一端经驱动线圈连通至电源形成闭合电路。