[发明专利]一种高产酸的肟磺酸酯类光产酸剂

说明书

本发明公开一种感光度高，溶解性、热稳定性和化学稳定性更具优势的肟磺酸酯类光产酸剂，含有该光产酸剂的抗蚀剂组合物及其应用，所述肟磺酸酯类光产酸剂具有通式(I)所示结构：

技术领域

本发明属于感光材料技术领域，具体涉及一种在300-450nm波长范围内高产酸的肟磺酸酯类光产酸剂、含有该光产酸剂的抗蚀剂组合物及其应用。

背景技术

光产酸剂是化学增幅型光致抗蚀剂的关键组成之一，其结构和性能对光刻图像有较大影响。非离子i线光产酸剂主要是磺酸酯类。其中，肟磺酸酯类光产酸剂在半导体领域中用作光引发剂已被广泛知悉，如JP2000066385A、JP2016169173A、CN1989455B、CN101473268A、CN112010788A等专利文献中公开了多种不同的肟磺酸酯光产酸剂。这些技术中很少能将光敏感区涵盖i-g线，或在i-g线的产酸率较低。随着对高精细化图案的要求，对于光产酸剂，须具有溶解性高、产酸率高、热稳定性匹配和化学稳定性好等条件。

发明内容

本发明的目的在于提供一种感光度高，溶解性、热稳定性和化学稳定性更具优势的肟磺酸酯类光产酸剂，含有该光产酸剂的抗蚀剂组合物及其应用。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供一种肟磺酸酯类光产酸剂，具有如下通式(I)所示结构：

其中，

R₁表示C₁-C₂₀的直链状或支链状的烷基、C₃-C₂₀的环烷基、C₁-C₂₀的直链状或支链状的氟代烷基、C₃-C₂₀的氟代环烷基、C₆-C₁₈的取代或未取代的芳基、樟脑基、樟脑醌基或叠氮萘酮基团；

R₂与R₂’可相同，也可不同，各自独立地选自下列基团：氢，卤素，C₁-C₂₀的直链状或支链状的烷基，C₃-C₂₀的环烷基，C₂-C₂₀的直链状或支链状的链烯基，C₂-C₂₀的直链状或支链状的炔基，C₁-C₂₀的直链状或支链状的烷氧基，C₁-C₂₀的直链状或支链状的烷硫基，C₁-C₂₀的直链状或支链状的卤代烷基，C₁-C₂₀的直链状或支链状的羟基取代烷基，C₂-C₂₀的直链状或支链状的羟基烷氧基取代烷基，被C₆-C₁₀的芳基或芳氧基取代的C₁-C₂₀烷基，被1个以上的-O-、-S-、-O-CO-或-CO-O-中断的C₂-C₂₀的直链状或支链状的烷基或烷氧基，取代或未取代的C₆-C₁₀芳基，C₆-C₂₀的芳基硫基，含有N、O和/或S的C₂-C₂₀的杂环基团；或者R₂，R₂’彼此相连以形成环；

R₃选自下列基团：