[发明专利]平均材料去除率预测方法、装置、电子设备和存储介质

权利要求书

1.一种平均材料去除率预测方法，其特征在于，所述方法包括：

获取模型训练集；

对所述模型训练集进行归一化处理；

对归一化处理后的所述训练集中的每个样本进行特征提取；

根据提取后的特征利用高斯过程回归进行建模；

利用建模后的模型对测试样本进行预测，获得所述测试样本的平均材料去除率预测值；

其中，所述对归一化处理后的所述训练集中的每个样本进行特征提取包括：

对所述训练集中的每个样本进行基于时间的参考样本提取，获得基于时间的参考样本特征；

对所述训练集中的每个样本进行基于相似度的参考样本提取，获得基于相似度的参考样本特征；

将所述训练集中的每个样本的基于时间的参考样本特征和基于相似度的参考样本特征合并，作为所述训练集中的每个样本的提取特征；

其中，所述对所述训练集中的每个样本进行基于时间的参考样本提取，获得基于时间的参考样本特征包括：

对所述训练集中的每个样本提取对应的时间戳值；

计算每个样本的时间戳值与所述训练集中其他样本的时间戳值之间的差值；

根据所述差值，查找预设第一数量个距离所述每个样本在时间戳上最近的样本；

获取所述最近的样本对应的平均材料去除率，作为所述基于时间的参考样本特征；

其中，所述对所述训练集中的每个样本进行基于相似度的参考样本提取，获得基于相似度的参考样本特征包括：

计算所述训练集中的每个样本与所述训练集中的其他样本之间的相似性；

确定预设第二数量个与所述训练集中的每个样本最相似的样本；

获取所述最相似的样本对应的平均材料去除率，作为所述基于相似度的参考样本特征；

所述获取模型训练集包括：

获取多个晶圆在进行化学机械抛光过程中的传感器测量值和对应的平均材料去除率；

将所述多个晶圆的传感器测量值和对应的平均材料去除率作为模型训练集。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述模型训练集进行归一化处理包括：

利用如下公式（1）对所述模型训练集进行归一化处理：

（1）

其中，表示归一化后的模型训练集，s表示归一化前的模型训练集，StandardDeviation（）表示标准差方程，mean（）表示平均值方程。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据提取后的特征利用高斯过程回归进行建模包括：

利用均值函数和协方差函数对提取后的特征进行参数化；

基于参数化的特征，利用预设的通用方程进行模型的构建。