[发明专利]一种银合金靶材制备工艺及应用在审

专利信息
申请号: 202210202295.5 申请日: 2022-03-02
公开(公告)号: CN114574822A 公开(公告)日: 2022-06-03
发明(设计)人: 顾宗慧 申请(专利权)人: 基迈克材料科技(苏州)有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C22C5/06;B22D18/02;C22F1/14;B23K20/12;B23K20/26
代理公司: 苏州企知鹰知识产权代理事务所(普通合伙) 32420 代理人: 蔡天明
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 合金 制备 工艺 应用
【说明书】:

发明涉及一种银合金靶材制备工艺及应用,其中,制备工艺包括:根据预成型成品的尺寸选取对应规格的AgIn合金锭作为制备原材备用;将制备原材于450‑600℃的温度条件下预热1‑2h至其呈半熔融状态,作为挤压原材备用;将挤压原材注入挤压成型设备中,通过预装的成型模具将挤压原材挤压成板材加工体;待板材加工体冷却至常温后,于搅拌摩擦焊机上按照预置的加工参数及运行路径对板材加工体进行搅拌摩擦焊处理,得到靶材半成品;根据预成型成品的加工参数对所述靶材半成品进行机加工以最终得到银合金靶材成品。通过上述制备工艺加工的银合金靶材在工作时组织稳定,能够满足大尺寸显示器靶材的应用需求,且降低了烧结能耗和加工成本。

技术领域

本发明涉及靶材制备技术领域,特别涉及一种银合金靶材制备工艺及应用。

背景技术

靶材又称“溅射靶材”,由于是在溅射过程中被高速金属等离子体流轰击的目标材料而得名。靶材是半导体、显示面板、光伏等领域制备功能薄膜的核心原材料,存在工艺不可替代性。更换不同靶材可得到不同的膜系,从而实现导电或阻挡等功能。

目前,显示用靶材大多数为金属靶,如:金属铝靶、金属铜靶。贵金属及贵金属合金靶材,如银合金靶产生的银膜系具有较高的光的反射率及较低的电阻值,被用于反射型液晶显示器、LED、太阳能电池等反射电极膜。

目前银合金靶材的生产过程主要是:原料—熔炼浇注—热处理—热轧延—冷轧延—热处理—机加工,由于在热处理过程中,晶粒会再结晶长大,在热轧延及冷轧延过程中,晶粒会出现一定的方向性,导致镀膜过程中易出现尖端放电现象,从而影响膜层质量。

发明内容

为解决上述技术问题,本发明提供了一种银合金靶材制备工艺及应用,具有易于等轴化、提高膜层质量的优点。

为达到上述目的,本发明的技术方案如下:

一种银合金靶材制备工艺,包括:

根据预成型成品的尺寸选取对应规格的AgIn合金锭作为制备原材备用;

将所述制备原材于450-600℃的温度条件下预热1-2h至其呈半熔融状态,作为挤压原材备用;

将所述挤压原材注入挤压成型设备中,通过预装的成型模具将所述挤压原材挤压成板材加工体;

待所述板材加工体冷却至常温后,于搅拌摩擦焊机上按照预置的加工参数及运行路径对所述板材加工体进行搅拌摩擦焊处理,得到靶材半成品;

根据预成型成品的加工参数对所述靶材半成品进行机加工以最终得到银合金靶材成品。

作为本发明的一种优选方案,所述制备原材的纯度大于99.995%,所述制备原材中In含量为0.1-1.5at%。

作为本发明的一种优选方案,所述通过预装的成型模具将所述挤压原材挤压成板材加工体时,控制挤压成型设备的挤压温度为450-500℃、挤压速度为15-20cm/min。

作为本发明的一种优选方案,所述通过预装的成型模具将所述挤压原材挤压成板材加工体的总变形量大于85%。

作为本发明的一种优选方案,进行搅拌摩擦焊处理处理时,控制搅拌摩擦焊机的下压量为2-5H/mm、倾角为1-5°、旋转速度为300-500r/min、运行速度为20-50cm/min。

作为本发明的一种优选方案,所述靶材半成品的晶粒尺寸小于100μm。

作为本发明的一种优选方案,所述机加工包括切割加工和表面加工。

另一方面,本发明还提供将由上述任一技术方案所述的制备工艺制备得到的银合金靶材应用于显示器、集成电路、光伏电池或者功能玻璃。

综上所述,本发明具有如下有益效果:

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