[发明专利]统计方法和处理装置在审
申请号: | 202210202235.3 | 申请日: | 2022-03-02 |
公开(公告)号: | CN115080918A | 公开(公告)日: | 2022-09-20 |
发明(设计)人: | 浅川贵志;田中谕志;青井良太 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | G06F17/18 | 分类号: | G06F17/18;H01L21/67 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;徐飞跃 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 统计 方法 处理 装置 | ||
本发明提供一种统计方法和处理装置。统计方法包括:获取日志信息的步骤,所述日志信息包含由处理基片的处理装置所具有的传感器测量出的、所述处理装置使用了的资源消耗的测量值和测量日期时间;将获取到的所述日志信息中包含的所述资源消耗的测量值和所述测量日期时间保存在存储部中的步骤;和参照所述存储部,对指定的统计期间中的所述测量日期时间所对应的所述资源消耗的测量值进行累计,计算每个所述处理装置的所述资源消耗的累计值的步骤。根据本发明,能够使每个处理装置所使用的消耗能量可视化。
技术领域
本发明涉及统计方法和处理装置。
背景技术
例如专利文献1中公开了一种半导体制造装置,其具有:存储单元,其存储表示基片的处理状态的处理日志数据;和显示控制单元,其显示关于处理日志数据的图表。专利文献1的半导体制造装置所具有的显示图表的显示控制装置具有:显示2轴的处理日志数据的图表的2轴图表显示单元;和显示3轴的处理日志数据的图表的3轴图表显示单元。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2014-154827号公报。
发明内容
发明要解决的问题
本发明提供使每个处理装置所使用的消耗能量可视化的技术。
用于解决问题的技术手段
依照本发明的一个方式提供统计方法,其包括:获取日志信息的步骤,所述日志信息包含由处理基片的处理装置所具有的传感器测量出的、所述处理装置使用了的资源消耗的测量值和测量日期时间;将获取到的所述日志信息中包含的所述资源消耗的测量值和所述测量日期时间保存在存储部中的步骤;和参照所述存储部,对指定的统计期间中的所述测量日期时间所对应的所述资源消耗的测量值进行累计,计算每个所述处理装置的所述资源消耗的累计值的步骤。
发明效果
依照一个方面,使每个处理装置所使用的消耗能量可视化。
附图说明
图1是表示实施方式的基片处理装置的一个例子的概略图。
图2是表示实施方式的控制部的硬件结构的一个例子的图。
图3是表示实施方式的控制部的功能结构的一个例子的图。
图4是表示实施方式的信息收集方法ST1的一个例子的流程图。
图5是表示实施方式的统计方法ST2的一个例子的流程图。
图6是表示统计期间的输入画面的一个例子的图。
图7是表示实施方式的统计方法ST2的统计结果的一个例子的图。
图8是实施方式的统计方法ST2的统计结果的显示例。
图9是实施方式的统计方法ST2的统计结果的显示例。
图10是表示实施方式的基片处理系统的一个例子的概略图。
附图标记说明
1 基片处理装置
2 气体供给部
10 处理容器
20 气体配管
28、29 喷射器
30 排气部
40 加热部
50 冷却部
60 温度传感器
100 控制部
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