[发明专利]一种激光高透曲面屏蔽玻璃制备方法及屏蔽玻璃

说明书

本发明属于屏蔽玻璃技术领域，具体涉及一种激光高透曲面屏蔽玻璃制备方法及屏蔽玻璃，包括以下步骤：S1、对内表面具备金属网栅结构的曲面玻璃的中部进行遮挡，在其内表面沉积金靶材形成金属膜层，使其与金属网栅形成良好的电连接性能；S2、在S1沉积金靶材的曲面玻璃内外表面，交替沉积折射率不同的电介质靶材，形成减反增透膜层。本发明对于金属在导引头曲面罩的应用具有重大意义。特别是军用导引系统在瞄准、制导中的应用越来越广泛，如能在保证红外高透光率前赋予其高屏蔽效能，必将大大提高导弹的精准制导，在保障红外探测精准度，抵御强电磁信号的干扰以及潜在的高功率微波武器攻击等方面，具有重要的实践作用。

技术领域

本发明属于屏蔽玻璃技术领域，具体涉及一种激光高透曲面屏蔽玻璃制备方法及屏蔽玻璃。

背景技术

随着高功率微波武器、核脉冲武器等功率的增大，在导弹、卫星、飞机、舰船、车辆等装备中对高性能多功能电磁防护材料的需求急剧增加。其中，红外导引头在复杂电磁环境下极易受到外界的电磁干扰而出现错误，影响激光制导、瞄准等功能。当下，红外导引头用透红外屏蔽薄膜材料存在强电磁脉冲防护性能差、红外透过率低的问题，导致电磁波介质穿透耦合进入红外导引头，雷达探测系统受损。

传统的方法采用多层金属薄膜材料，通过采用多层增透膜设计技术提高红外透过率，国内现有高透红外屏蔽薄膜材料技术指标满足单频点(1024nm)近红外透过率90％，屏蔽效能≥30dB(30MHz～18GHz)，但红外透过频段窄、透过率低、强电磁脉冲防护性能差，不能满足实际需求。

因而，对强电磁脉冲屏蔽材料的应用来讲，急需开展高透红外屏蔽薄膜材料研究，满足红外透过率≥90％(3um～4um、8um～12um)、连续电磁波屏蔽效能≥40dB(1GHz～18GHz)、强电磁脉冲防护性能≥35dB(场强≥70KV/m)，解决导引头的高透红外、连续电磁波屏蔽、强电磁脉冲防护兼容的难题。

发明内容

针对上述技术问题，本发明一个目的在于提供一种激光高透曲面屏蔽玻璃制备方法，采用在红外波段透光优异的介质材料，通过激光直接技术、多结构复配匹配设计技术，从而使金属材料透明化，在保证激光高透的同时提高膜层的电磁屏蔽性能，实现电磁波段高屏蔽效能的目的。本发明的另一个目的是提供一种利用该方法制备的屏蔽玻璃。

为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：

一种激光高透曲面屏蔽玻璃制备方法，包括以下步骤：

S1、对内表面具备金属网栅结构的曲面玻璃的中部进行遮挡，在其内表面沉积金靶材形成金属膜层，使其与金属网栅形成良好的电连接性能；

S2、在S1沉积金靶材的曲面玻璃内外表面，交替沉积折射率不同的电介质靶材，形成减反增透膜层。

所述S1中金靶材采用金、银、铜中的任一种；

所述S1中，内表面具备金属网栅结构的曲面玻璃采用以下方法制得：

在曲面玻璃的内表面涂覆光刻胶，将金属网栅结构掩膜置于光刻胶表面，对掩膜后的光刻胶进行曝光，显影后得到内表面具备轮廓图形的曲面玻璃；

在显影后的曲面玻璃的内表面制备金属膜层，形成金属网栅结构。

利用电子束蒸镀沉积金靶材，电子束功率为1500W，利用离子束辅助沉积，沉积温度为60℃，工作气压8Pa，氩气流量75sccm，在具备轮廓图形的曲面玻璃内表面制备1000nm厚度的金属膜层，最后清洗曲面玻璃内表面多余的光学胶，形成金属网栅结构。

沉积时，具备轮廓图形的曲面玻璃位于可自转和公转的工装上。

金属网栅结构掩膜为激光直写技术将金属刻蚀成随机的网栅结构，其网栅线径在5～10微米左右，实现纵深比1:1。