[发明专利]一种具有水汽分离装置的半导体废气处理设备及处理方法

权利要求书

1.一种具有水汽分离装置的半导体废气处理设备，包括放置在放置架(14)上的氧化反应罐(1)、废液聚集箱(11)和雾化罐(5)，所述氧化反应罐(1)上设有废气进气口(2)和氧气进气口(3)，所述氧化反应罐(1)与废液聚集箱(11)、废液聚集箱(11)与雾化罐(5)均通过废气出气管连接，且连接处均设有密封圈；所述雾化罐(5)上设有出气口(6)，且所述雾化罐(5)通过进水管(4)与水箱(9)连接；所述废液聚集箱(11)设有出水口(12)，所述出水口(12)上安装有手动阀(13)，手动阀(13)正下方置有接水桶(8)，

其特征在于，还包括

水汽分离装置(15)，置于所述废液聚集箱(11)内，且水汽分离装置(15)与废液聚集箱(11)上的废气出气管连接；

液面检测装置(10)，所述废液聚集箱(11)上安装有液面检测装置(10)；

所述液面检测装置(10)包括

透明软管(102)，两端通过快速接头(101)安装在废液聚集箱(11)上的透明软管(102)；

固定管(106)，穿过透明软管(102)，且固定管(106)一端通过轴环(103)安装在快速接头(101)上，所述固定管(106)一侧设有开口(107)；

光纤传感器(104)，通过传感器固定带(105)安装在固定管(106)上，且所述光纤传感器(104)置于开口(107)内；还包括安装在放置架(14)两侧的把手(7)，所述放置架(14)的两侧对称置于撑架(17)上，所述撑架(17)的数量至少有四个；所述撑架(17)由方形管组成，所述撑架(17)包括支撑杆(1701)，所述支撑杆(1701)设有倾斜的凸块(1704)，所述支撑杆(1701)通过固定销(1703)安装在限位块(1702)上，所述限位块(1702)两侧设有限位板，所述限位板之间的间距等于方形管的宽度，且所述凸块(1704)呈水平放置，撑架(17)上的方形管置于两个所述限位板之间；所述水汽分离装置(15)包括

进气管(1501)，与废液聚集箱(11)上的废气出气管连接的进气管(1501)；

闭合装置一(1502)，所述进气管(1501)通过闭合装置一(1502)与过渡管(1505)连接；

水汽分离壳体(1503)，所述过渡管(1505)一端通过密封板(1506)安装在水汽分离壳体(1503)上，所述水汽分离壳体(1503)为倒置的三角形状，所述过渡管(1505)位于三角状侧面的中间位置处；

出气管(1504)，所述水汽分离壳体(1503)顶面设有出气管(1504)；

出水口二(1509)，所述水汽分离壳体(1503)底面设有出水口二(1509)；

水汽分离管(1507)，所述过渡管(1505)另一端置有水汽分离管(1507)，所述水汽分离管(1507)安装在水汽分离壳体(1503)内；

所述闭合装置一(1502)包括

连接盒(15021)，两侧分别安装有进气管(1501)和过渡管(1505)的连接盒(15021)，所述连接盒(15021)上端设有方形孔、下端安装有出水口一(15022)；

闭合板(15024)，置于方形孔内，且所述闭合板(15024)的厚度等于进气管(1501)和过渡管(1505)之间的间距；

气缸(15023)，所述闭合板(15024)通过气缸(15023)安装在连接盒(15021)上，所述气缸(15023)两端安装有磁性开关。

2.根据权利要求1所述的一种具有水汽分离装置的半导体废气处理设备，其特征在于，所述水汽分离装置(15)还包括安装在废液聚集箱(11)上的废气出气管内的闭合装置二(1508)。

3.根据权利要求1所述的一种具有水汽分离装置的半导体废气处理设备，其特征在于，所述水汽分离管(1507)一端设为开口端(15071)、另一端设有水汽密封板(15072)，且水汽分离管(1507)通过水汽密封板(15072)安装在水汽分离壳体(1503)内，所述水汽分离管(1507)表面设有若干分离孔(15073)。