[发明专利]光学单元、芯片及其制造方法

权利要求书

1.一种光学单元，其包括：

第一层，其包括衬底，所述衬底为高阻材料；

第二层，其位于所述衬底的下方且与所述第一层经配置以进行光信号传输；以及

中间层，其位于所述衬底和所述第二层之间，其中所述中间层包括位于所述衬底下方的铝氧化物层。

2.根据权利要求1所述的光学单元，其中所述中间层为三氧化二铝。

3.根据权利要求1所述的光学单元，其中所述第一层和所述第二层中的至少一者包括波导层。

4.根据权利要求1所述的光学单元，其中所述第一层包括波导层，且所述波导层位于所述衬底之上。

5.根据权利要求1所述的光学单元，其中所述高阻材料包括硅、石英以及蓝宝石中的至少一者。

6.根据权利要求1所述的光学单元，其中所述第二层包括绝缘层，且所述中间层位于所述绝缘层之上。

7.根据权利要求6所述的光学单元，其中所述铝氧化物层位于所述绝缘层之上。

8.一种芯片，其包括根据权利要求1-7中的任一权利要求所述的光学单元。

9.一种制造光学单元的方法，其包括：

提供第一层，所述第一层包括衬底，所述衬底为高阻材料；

提供第二层，其中所述第一层与所述第二层经配置以进行光信号传输；

在所述第二层上形成中间层；以及

通过所述中间层集成所述第一层与所述第二层，其中所述中间层包括位于所述衬底下方的铝氧化物层。

10.一种制造芯片的方法，其包括根据权利要求9所述的方法。