[发明专利]电弧蒸发装置

说明书

一种电弧蒸发装置，包括阴极弧蒸发源、第一磁场装置、第二磁场装置以及第三磁场装置。所述阴极弧蒸发源的表面包括经配置以限制阴极弧弧斑的移动并容纳靶材液滴的凹槽结构。所述第一磁场装置设置于所述阴极弧蒸发源的第一侧且经配置以产生第一磁场。所述第二磁场装置设置于所述第一侧并环绕所述第一磁场装置设置且经配置以产生第二磁场。所述第三磁场装置环绕所述阴极弧蒸发源、所述第一磁场装置和所述第二磁场装置设置，且经配置以产生第三磁场。所述第一磁场和所述第二磁场的磁场方向相反，所述第一磁场和所述第三磁场的磁场方向相同。

技术领域

本申请涉及一种装置，详细来说，是有关于一种电弧蒸发装置。

背景技术

在现有的电弧蒸发装置中，当在对待加工工件进行镀膜工艺时，电弧蒸发装置的阴极弧蒸发源的靶面金属离化后，会使得等离子体在靶面电磁场做螺旋线运动，以在待加工工件表面形成膜层。但是在等离子体形成过程中，弧斑跑动不够迅速，弧斑在靶面停留时间过长，导致部分熔池温度过高并产生大量中性液体颗粒。液体颗粒会在涂层表面形成贯穿颗粒并容易影响涂层性能。

发明内容

有鉴于此，本申请提供一种电弧蒸发装置来解决上述问题。

依据本申请的一实施例，提供一种电弧蒸发装置。所述电弧蒸发装置包括阴极弧蒸发源、第一磁场装置、第二磁场装置以及第三磁场装置。所述阴极弧蒸发源的表面包括凹槽结构。所述凹槽结构经配置以限制阴极弧弧斑的移动并容纳靶材液滴。所述第一磁场装置设置于所述阴极弧蒸发源的第一侧。所述第一磁场装置经配置以产生第一磁场。所述第二磁场装置设置于所述阴极弧蒸发源的所述第一侧并环绕所述第一磁场装置设置。所述第二磁场装置经配置以产生第二磁场。所述第三磁场装置环绕所述阴极弧蒸发源、所述第一磁场装置和所述第二磁场装置设置。所述第三磁场装置经配置以产生第三磁场。所述第一磁场和所述第二磁场的磁场方向相反，所述第一磁场和所述第三磁场的磁场方向相同。

依据本申请的一实施例，所述凹槽结构包括U型槽。

依据本申请的一实施例，所述U型槽在所述阴极弧蒸发源的表面呈现封闭圆环。

依据本申请的一实施例，所述第一磁场装置和所述第二磁场装置靠近所述阴极弧蒸发源的一端共平面。

依据本申请的一实施例，所述第一磁场装置包括柱状永磁铁。

依据本申请的一实施例，所述第二磁场装置包括环形永磁铁或排布成环状结构的多个柱状磁铁。

依据本申请的一实施例，所述第三磁场装置的一端与所述阴极弧蒸发源的所述表面共平面。

依据本申请的一实施例，所述第三磁场装置包括环形线圈。

依据本申请的一实施例，所述环形线圈经配置以加载直流电源提供的可变电流。

附图说明

附图是用来提供对本申请的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本申请，但并不构成对本申请的限制。在附图中：

图1演示依据本申请一实施例之电弧蒸发装置的方块示意图。

图2演示依据本申请一实施例之电弧蒸发装置的部分示意图。

图3演示依据本申请一实施例之阴极弧蒸发源的前视视图。

图4A和图4B分别演示依据本申请一实施例的电弧蒸发装置的操作示意图。

具体实施方式