[发明专利]光学系统、曝光装置以及物品制造方法

说明书

本发明涉及光学系统、曝光装置以及物品制造方法。包括第1光学元件和第2光学元件的光学系统具备支承所述第1光学元件的多个第1支承部、支承所述第2光学元件的多个第2支承部、分别调整所述多个第1支承部的位置的多个第1线性调整机构以及分别调整所述多个第2支承部的位置的多个第2线性调整机构。通过由所述多个第1线性调整机构对所述多个第1支承部的位置进行的调整，所述第1光学元件至少关于第1轴被进行调整，通过由所述多个第2线性调整机构对所述多个第2支承部的位置进行的调整，所述第2光学元件至少关于与所述第1轴不同的第2轴被进行调整。

技术领域

本发明涉及一种光学系统、曝光装置以及物品制造方法。

背景技术

在专利文献1中记载有一种将原版的图案投影于基板的投影光学系统。该投影光学系统具备配置于原版与基板之间的光路中的第1凹面镜、凸面镜、第2凹面镜以及支承第1凹面镜和第2凹面镜的支承机构。该支承机构包括架状的框体，该框体包括上部构件、中段构件、下部构件以及连结它们的端部的侧部构件，该第1凹面镜由该上部构件和该中段构件支承，该第2凹面镜由该下部构件支承。利用这样的结构，能够抑制由第1凹面镜和第2凹面镜的独立的位置偏移引起的成像性能的降低。

发明内容

发明要解决的问题

在具有第1光学元件和第2光学元件的光学系统中，能够调整第1光学元件与第2光学元件的相对的配置的结构对于调整光学系统的光学性能是重要的。在专利文献1中，没有提及对第1凹面镜与第2凹面镜的相对的配置进行调整。

本发明的目的在于提供一种有利于调整构成光学系统的第1光学元件与第2光学元件的相对的配置的技术。

用于解决问题的方案

本发明的第1方面涉及一种光学系统，包括第1光学元件和第2光学元件，所述光学系统具备：多个第1支承部，支承所述第1光学元件；多个第2支承部，支承所述第2光学元件；多个第1线性调整机构，分别调整所述多个第1支承部的位置；以及多个第2线性调整机构，分别调整所述多个第2支承部的位置，通过由所述多个第1线性调整机构对所述多个第1支承部的位置进行的调整，所述第1光学元件至少关于第1轴被进行调整，通过由所述多个第2线性调整机构对所述多个第2支承部的位置进行的调整，所述第2光学元件至少关于与所述第1轴不同的第2轴被进行调整。

本发明的第2方面涉及一种曝光装置，所述曝光装置具备：所述第1方面所涉及的光学系统，该光学系统被构成为将原版的图案投影于基板的投影光学系统；原版载置台，保持所述原版；基板载置台，保持所述基板；以及照明光学系统，对所述原版进行照明。

本发明的第3方面涉及一种物品制造方法，所述物品制造方法包括：曝光工序，在该曝光工序中，使用所述第2方面所涉及的曝光装置，对基板进行曝光；显影工序，在该显影工序中，对在所述曝光工序中被曝光后的所述基板进行显影；以及处理工序，在该处理工序中，对经过了所述显影工序的所述基板进行处理，得到物品。

发明的效果

根据本发明，提供一种有利于调整构成光学系统的第1光学元件与第2光学元件的相对的配置的技术。

附图说明

图1是表示第1实施方式的光学系统的结构的图。

图2是表示第2实施方式的光学系统的结构的图。

图3是表示第1光学元件和第2光学元件的结构例的立体图。

图4是表示第1支承部的结构例的图。

图5是表示第2支承部的结构例的图。

图6是表示线性调整机构的结构例的图。

图7是表示曝光装置的结构例的图。

附图标记说明