[发明专利]光学系统、曝光装置以及物品制造方法在审
申请号: | 202210076491.2 | 申请日: | 2022-01-24 |
公开(公告)号: | CN114815514A | 公开(公告)日: | 2022-07-29 |
发明(设计)人: | 由井友树;羽切正人;木村一贵;西川原朋史;关美津留;白畑恭平 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 孙蕾 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学系统 曝光 装置 以及 物品 制造 方法 | ||
1.一种光学系统,包括第1光学元件和第2光学元件,其特征在于,
该光学系统具备:
多个第1支承部,支承所述第1光学元件;
多个第2支承部,支承所述第2光学元件;
多个第1线性调整机构,分别调整所述多个第1支承部的位置;以及
多个第2线性调整机构,分别调整所述多个第2支承部的位置,
通过由所述多个第1线性调整机构对所述多个第1支承部的位置进行的调整,所述第1光学元件至少关于第1轴被进行调整,
通过由所述多个第2线性调整机构对所述多个第2支承部的位置进行的调整,所述第2光学元件至少关于与所述第1轴不同的第2轴被进行调整。
2.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,
所述多个第1线性调整机构被配置成:将所述多个第1线性调整机构中的一个第1线性调整机构分配给所述多个第1支承部中的一个第1支承部,
所述多个第2线性调整机构被配置成:将所述多个第2线性调整机构中的一个第2线性调整机构分配给所述多个第2支承部中的一个第2支承部。
3.根据权利要求2所述的光学系统,其特征在于,
所述多个第1支承部各自的位置不被除对该第1支承部分配的第1线性调整机构之外的机构调整,
所述多个第2支承部各自的位置不被除对该第2支承部分配的第2线性调整机构之外的机构调整。
4.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,
所述多个第1线性调整机构调整所述多个第1支承部的位置的方向与第1方向平行,
所述多个第2线性调整机构调整所述多个第2支承部的位置的方向与不同于所述第1方向的第2方向平行。
5.根据权利要求4所述的光学系统,其特征在于,
通过由所述多个第1线性调整机构对所述多个第1支承部的位置进行的调整,所述第1光学元件关于包括所述第1轴的3个轴被进行调整,
通过由所述多个第2线性调整机构对所述多个第2支承部的位置进行的调整,所述第2光学元件关于包括所述第2轴的3个轴被进行调整。
6.根据权利要求5所述的光学系统,其特征在于,
通过由所述多个第2线性调整机构对所述多个第2支承部的位置进行的调整而能够调整所述第2光学元件的所述3个轴与通过由所述多个第1线性调整机构对所述多个第1支承部的位置进行的调整而能够调整所述第1光学元件的所述3个轴全部不同。
7.根据权利要求6所述的光学系统,其特征在于,
所述第1轴和所述第2轴相互正交,
通过由所述多个第1线性调整机构对所述多个第1支承部的位置进行的调整而能够调整所述第1光学元件的所述3个轴是所述第1轴、绕所述第2轴的旋转、绕与所述第1轴和所述第2轴正交的第3轴的旋转,
通过由所述多个第2线性调整机构对所述多个第2支承部的位置进行的调整而能够调整所述第2光学元件的所述3个轴是所述第2轴、所述第3轴、绕所述第1轴的旋转。
8.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,
所述第1光学元件的外形具有从由第1圆弧和第1弦规定的图形切去所述第1弦的一端侧的第1部分和所述第1弦的另一端侧的第2部分而得到的形状,
所述第1光学元件包括配置于所述第1部分且由所述多个第1支承部中的一个第1支承部支承的第1被支承部和配置于所述第2部分且由所述多个第1支承部中的另一个第1支承部支承的第2被支承部,
所述第1光学元件以使所述第1弦成为下侧、使所述第1圆弧成为上侧的方式被所述多个第1支承部支承。
9.根据权利要求8所述的光学系统,其特征在于,
所述第1被支承部在所述第1光学元件被所述多个第1支承部支承的状态下具有水平的被支承面,
所述第2被支承部在所述第1光学元件被所述多个第1支承部支承的状态下具有水平的被支承面。
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