[发明专利]碟式陶瓷膜及其一次成型方法在审
| 申请号： | 202210065056.X | 申请日： | 2022-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN114452830A | 公开（公告）日： | 2022-05-10 |
| 发明（设计）人： | 郝恩奇;何世斌;常启兵 | 申请（专利权）人： | 重庆兀盾纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00;B01D69/10;B01D71/02 |
| 代理公司： | 重庆纵义天泽知识产权代理事务所(普通合伙) 50272 | 代理人： | 曾娟 |
| 地址： | 402460 重*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 陶瓷膜 及其 一次 成型 方法 | ||
1.碟式陶瓷膜一次成型方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一：将陶瓷膜支撑体原料铺设在模具上，形成第一支撑层；
步骤二：将疏松体铺设在第一支撑层上，疏松体包括可燃物；
步骤三：将陶瓷膜支撑体原料铺设在第一支撑层和疏松体上,形成第二支撑层；
步骤四：进行干压，形成陶瓷膜半成品；
步骤五：将陶瓷膜半成品进行烘干煅烧，形成陶瓷膜支撑体成品；
步骤六：在支撑体表面进行涂膜，进行烘干煅烧，形成陶瓷膜成品。
2.根据权利要求1所述的碟式陶瓷膜一次成型方法，其特征在于：所述陶瓷膜原料为浆液状或干粉状。
3.根据权利要求1所述的碟式陶瓷膜一次成型方法，其特征在于：所述步骤五中对支撑体成品进行表面抛光处理。
4.根据权利要求1所述的碟式陶瓷膜一次成型方法，其特征在于：所述第一支撑层厚度和第二支撑层厚度相同或者第一支撑层厚度大于第二支撑层厚度，第一支撑层厚度与第二支撑层厚度的厚度差值范围为0 mm~0.2mm。
5.根据权利要求1所述的碟式陶瓷膜一次成型方法，其特征在于：所述疏松体的布料形状为抛物线形、直线形、折线形、斑点状、蜂窝状或者不规则形状。
6.根据权利要求1所述的碟式陶瓷膜一次成型方法，其特征在于：所述疏松体的整面布料直径小于第一支撑层直径和第二支撑层直径。
7.根据权利要求1所述的碟式陶瓷膜一次成型方法，其特征在于：所述第一支撑层和第二支撑层厚度均为0.3～4mm；所述疏松体的高度为0.1～4mm。
8.根据权利要求1所述的碟式陶瓷膜一次成型方法，其特征在于：所述陶瓷膜的集水通孔采用布料煅烧的方式制成或者采用陶瓷膜成品打孔的方式制成。
9.碟式陶瓷膜，其特征在于，由权利要求1-7中的任一方法制得。
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