[发明专利]显示装置在审

专利信息
申请号: 202210061552.8 申请日: 2022-01-19
公开(公告)号: CN114823801A 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 宋贤奎;许娜丽;洪相玟;丁喜星 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 代理人: 李英艳;冯志云
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置
【说明书】:

本公开提供一种显示装置,所述显示装置包括:下基底、平坦化层、第一发光结构和第二发光结构。所述下基底包括第一区域和第二区域。所述平坦化层设置在所述下基底上,并且在所述第一区域中具有第一厚度并且在所述第二区域中具有小于所述第一厚度的第二厚度。所述第一发光结构被提供在所述第一区域中并且布置在所述平坦化层上,并且发射第一颜色光。所述第二发光结构被提供在所述第二区域中并且布置在所述平坦化层上,并且发射所述第一颜色光。

技术领域

发明构思的实施例总体上涉及一种显示装置,并且更具体地,涉及一种包括发光结构的显示装置。

背景技术

平板显示装置由于其重量轻且薄的特性而被用作用于替代阴极射线管显示装置的显示装置。作为这种平板显示装置的代表性示例,存在液晶显示装置和有机发光显示装置。

显示装置包括下基底、发光结构、上基底等。另外,气隙存在于发光结构和上基底之间。由于气隙,从发光结构发射的光可能被漫反射(例如,光的干涉现象),并且因此可能发生彩虹缺陷(rainbow defect),其中,根据显示装置的用户的视角,亮度波纹强烈地出现。当彩虹缺陷发生时,可能降低显示装置的显示质量。

本背景技术部分中公开的上述信息仅用于理解本发明构思的背景,并且因此可能包含不构成现有技术的信息。

发明内容

根据本发明的实施例构造的装置能够提高在发光结构和上基底之间具有气隙的显示装置的显示质量。

本发明构思的附加特征将在以下描述中阐述,并且部分将从描述中变得明显,或者可以通过本发明构思的实践获知。

实施例提供了一种包括发光结构的显示装置,具有设置在下基底上并且在所述下基底的第一区域中具有第一厚度并且在所述下基底的第二区域中具有小于所述第一厚度的第二厚度的平坦化层。

根据本发明构思的实施例,一种显示装置包括:下基底、平坦化层、第一发光结构和第二发光结构。所述下基底包括第一区域和第二区域。所述平坦化层设置在所述下基底上,并且所述平坦化层在所述第一区域中具有第一厚度并且在所述第二区域中具有小于所述第一厚度的第二厚度。所述第一发光结构在所述平坦化层上设置在所述第一区域中,并且发射第一颜色光。所述第二发光结构在所述平坦化层上设置在所述第二区域中,并且发射所述第一颜色光。

所述显示装置还可以包括上基底,所述上基底设置在所述第一发光结构和所述第二发光结构上。

所述第一发光结构可以包括第一下电极和设置在所述第一下电极上的第一发光层,并且所述第二发光结构可以包括第二下电极和设置在所述第二下电极上的第二发光层。

从所述上基底的下表面到定位在所述第一区域中的所述平坦化层的上表面的第一距离可以小于从所述上基底的所述下表面到定位在所述第二区域中的所述平坦化层的所述上表面的第二距离。

所述第二距离和所述第一距离之间的差可以等于大约0.1微米或更小。

气隙可以形成在所述第一发光结构和所述第二发光结构与所述上基底之间。

所述显示装置还可以包括:第一半导体元件,设置在所述下基底上的所述第一区域中;以及第二半导体元件,设置在所述下基底上的所述第二区域中。所述平坦化层可以覆盖所述第一半导体元件和所述第二半导体元件。

所述平坦化层可以包括第一接触孔和第二接触孔。所述第一接触孔可以定位在所述第一区域中,并且可以暴露所述第一半导体元件的一部分。所述第二接触孔可以定位在所述第二区域中,并且可以暴露所述第二半导体元件的一部分。在从所述平坦化层的上表面到所述平坦化层的下表面的方向上延伸的所述第一接触孔的第一长度可以大于在所述方向上延伸的所述第二接触孔的第二长度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210061552.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top