[发明专利]聚酯光学基膜及其应用

权利要求书

1.一种聚酯光学基膜，其特征在于，包括依次层叠设置的第一聚酯表层、聚酯芯层以及第二聚酯表层，其中，所述第一聚酯表层和所述第二聚酯表层中还分布有粒径为50nm-400nm的复合微球，所述复合微球在所述第一聚酯表层和所述第二聚酯表层中的质量分数均为0.45%-10%，所述复合微球包括无机粒子以及接枝于所述无机粒子表面的丙烯酸酯聚合物，所述丙烯酸酯聚合物的折光指数大于所述无机粒子的折光指数，且小于聚酯的折光指数，所述聚酯光学基膜的表面粗糙度为15nm-50nm；

其中，所述无机粒子选自二氧化硅，所述丙烯酸酯聚合物包括聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸乙酯或聚甲基丙烯酸乙酯中的至少一种，所述无机粒子与所述丙烯酸酯聚合物的质量比为0.7∶20-0.9∶40。

2.根据权利要求1所述的聚酯光学基膜，其特征在于，所述无机粒子的粒径为20nm-300nm。

3.根据权利要求1所述的聚酯光学基膜，其特征在于，所述复合微球在所述第一聚酯表层和所述第二聚酯表层中的质量分数均为1%-10%。

4.根据权利要求1-3任一项所述的聚酯光学基膜，其特征在于，所述聚酯选自聚对苯二甲酸乙二醇酯。

5.根据权利要求1-3任一项所述的聚酯光学基膜，其特征在于，所述聚酯光学基膜的厚度不均匀度小于或等于5%，所述厚度不均匀度为所述聚酯光学基膜的厚度极差在所述聚酯光学基膜的总厚度中的百分比。

6.根据权利要求1-3任一项所述的聚酯光学基膜，其特征在于，所述第一聚酯表层和所述第二聚酯表层在所述聚酯光学基膜中的厚度百分比均为5%-15%。

7.根据权利要求6所述的聚酯光学基膜，其特征在于，所述第一聚酯表层的厚度为1μm-10μm，所述聚酯芯层的厚度为15μm-150μm，所述第二聚酯表层的厚度为1μm-10μm。

8.一种如权利要求1-7任一项所述的聚酯光学基膜在制备光学胶离型膜或片状多层陶瓷电容器离型膜中的应用。