[发明专利]装饰件的制备方法、装饰件以及电子设备

权利要求书

1.一种装饰件的制备方法，其特征在于，包括：

获取基材，所述基材具有相对设置的内表面和外表面；

在所述基材的外表面设置遮蔽层，所述遮蔽层上设有第一镂空区域；

在所述遮蔽层和所述基材上设置光学膜层，所述光学膜层覆盖所述遮蔽层远离所述基材的一侧和所述基材的外表面对应于所述第一镂空区域的部分；

去除所述遮蔽层以及覆盖于所述遮蔽层上的所述光学膜层，使所述光学膜层上形成第二镂空区域；

在所述基材的内表面设置第一装饰层，所述第一装饰层上设有第三镂空区域；

在所述基材的内表面所在的一侧设置第二装饰层，所述第二装饰层至少遮盖所述第三镂空区域，制得装饰件。

2.根据权利要求1所述的装饰件的制备方法，其特征在于，所述光学膜层包括依次层叠设置的第一膜层、第二膜层以及第三膜层，所述第一膜层的材料、所述第二膜层的材料以及所述第三膜层的材料各自选自氧化硅、氮化硅以及氮氧化硅中的一种，并且所述第一膜层的材料、所述第二膜层的材料以及所述第三膜层的材料各不相同；所述光学膜层的厚度为500nm-4000nm。

3.根据权利要求1所述的装饰件的制备方法，其特征在于，所述在所述基材的内表面设置第一装饰层包括：

沿所述基材的厚度方向，使所述第一装饰层与所述光学膜层至少部分地重叠，所述第三镂空区域与所述第二镂空区域至少部分地重叠。

4.根据权利要求1所述的装饰件的制备方法，其特征在于，所述在所述基材的内表面设置第一装饰层包括：

在所述基材的内表面对应于所述光学膜层的部分设置第一油墨材料；

对所述第一油墨材料进行固化，得到第一油墨层，所述第一油墨层构成所述第一装饰层。

5.根据权利要求1所述的装饰件的制备方法，其特征在于，所述在所述基材的内表面所在的一侧设置第二装饰层包括：

在所述第一装饰层远离所述基材的一侧贴附膜片，所述膜片遮盖所述第三镂空区域，所述膜片构成所述第二装饰层。

6.根据权利要求1所述的装饰件的制备方法，其特征在于，所述在所述基材的内表面所在的一侧设置第二装饰层包括：

在所述基材的内表面对应于所述第三镂空区域的部分设置第二油墨材料；

对所述第二油墨材料进行固化，得到第二油墨层，所述第二油墨层构成所述第二装饰层。

7.根据权利要求1所述的装饰件的制备方法，其特征在于，所述光学膜层的厚度大于所述遮蔽层的厚度；

所述去除所述遮蔽层以及覆盖于所述遮蔽层上的所述光学膜层包括：将所述遮蔽层浸泡于碱性溶液中，通过所述碱性溶液和所述遮蔽层之间的化学反应，使所述遮蔽层溶解于所述碱性溶液中。

8.根据权利要求7所述的装饰件的制备方法，其特征在于，所述遮蔽层的材料包括丙烯酸树脂和/或环氧酚醛树脂。

9.一种装饰件，其特征在于，包括：

基材，所述基材具有相对设置的内表面和外表面；

光学膜层，设置于所述基材的外表面，并且所述光学膜层上设有第二镂空区域；

第一装饰层，设置于所述基材的内表面，所述第一装饰层上设有第三镂空区域；

第二装饰层，设置于所述基材的内表面所在的一侧，所述第二装饰层至少遮盖所述第三镂空区域。

10.根据权利要求9所述的装饰件，其特征在于，所述光学膜层包括依次层叠设置的第一膜层、第二膜层以及第三膜层，所述第一膜层的材料、所述第二膜层的材料以及所述第三膜层的材料各自选自氧化硅、氮化硅以及氮氧化硅中的一种，并且所述第一膜层的材料、所述第二膜层的材料以及所述第三膜层的材料各不相同；所述光学膜层的厚度为500nm-4000nm。

11.根据权利要求9所述的装饰件，其特征在于，沿所述基材的厚度方向，所述第一装饰层与所述光学膜层至少部分地重叠，所述第三镂空区域与所述第二镂空区域至少部分地重叠。