[发明专利]导电性层叠体、触控面板和导电性层叠体的制造方法

说明书

本发明涉及导电性层叠体、触控面板和导电性层叠体的制造方法，其目的在于提供一种导电性层叠体，其耐溶剂性和耐擦伤性优异，同时雾度值低、具有极高的光透过率。本发明的导电性层叠体为在最外表面具有包含导电性纤维状填料的导电性层的导电性层叠体，其特征在于，自表面起压入量100nm处的马氏硬度为150N/mm²～3000N/mm²；在上述导电性层的最外表面侧的面，构成上述导电性纤维状填料的导电材料元素的比例以原子组成百分数计为0.15at％～5.00at％。

本申请是分案申请，其原申请的国际申请号为PCT/JP2016/061148，中国国家申请号为201680029053.3，申请日为2016年4月5日，发明名称为“导电性层叠体、触控面板和导电性层叠体的制造方法”。

【技术领域】

本发明涉及导电性层叠体、触控面板和导电性层叠体的制造方法。

【背景技术】

以往，作为液晶显示屏(LCD)、等离子体显示板(PDP)等显示屏、触控面板、太阳能电池等的透明电极，使用透明且导电性的薄膜，作为这样的薄膜，例如使用了在玻璃基材上层叠由氧化铟锡(ITO)等构成的导电膜而成的透明导电性薄板。

但是，使用了玻璃基板的透明导电性薄板的可挠性差，因而近年来主要使用了导电性膜，该导电性膜是在聚酯(PET)膜或由聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等可挠性树脂构成的基材膜上通过真空蒸镀法或溅射法设置由ITO等构成的导电膜而成的。

但是，由于由ITO等构成的导电膜不具有柔软性，因而若在由可挠性树脂构成的基材膜上设置该导电膜，则具有容易发生龟裂的问题。

对此，例如已知有在基板上设置包含金属纳米线的透明导电性层而成的透明导电体(例如，参见专利文献1等)。

专利文献1所记载的透明导电体是如下制造的：将金属纳米线分散在分散溶剂中，将所得到的水性分散物涂设在基板上、优选涂设在设于基材上的亲水性聚合物层上，使其干燥，由此来形成透明导电性层、制造透明导电体，由该方法制造的透明导电体呈现出金属纳米线埋入基材中或亲水性聚合物层中的状态。

但是，在这样的透明导电体中，由于埋入金属纳米线的基材等的表面处于未固化的状态，因而具有耐溶剂性和耐擦伤性差的问题。

另外，例如在专利文献2中公开了一种制造透明导电性膜的方法，在该方法中，在基材上形成透明导电膜、进一步在该透明导电膜上设置固化膜，之后通过蚀刻进行透明导电膜的图案化，制造出透明导电性膜。利用这样的在透明导电膜上设置固化膜的方法，能够期待耐溶剂性和耐擦伤性的提高。

但是，在透明导电膜上设置固化膜而成的透明导电性膜中，若固化层的厚度厚，则表面电阻增高，并且透明导电膜的蚀刻需要很长时间，因而设置在透明导电膜上的固化膜的厚度需要减薄。

但是，由于难以形成很薄的固化膜，因而多数情况下特别选择使用成膜性良好的聚合物材料，由这样的成膜性良好的聚合物材料构成的固化膜的硬度差，即使使用高硬度单体，膜也很薄，从而使固化不完全，具有耐擦伤性不充分的问题。

另外，还已知有通过例如所谓的所谓转印法来制造导电性膜的方法，在该方法中，在支撑体上形成导电膜，将其转移(写し取る)到基材膜上(例如，参见专利文献3、4等)。利用这样的导电性膜，能够期待耐溶剂性和耐擦伤性的提高。

但是，近年来，图像显示装置等中所要求的光学性能的水平日益增高，因而对导电性膜也要求优异的光学的性能，特别是要求雾度值低、透光性能极为优异，但对于通过转印法设置导电膜而成的现有导电性膜而言，这样的光学性能很难说是充分的。

【现有技术文献】

【专利文献】

专利文献1：日本特开2010-084173号公报