[发明专利]柔性近红外陷波片及其制作工艺和应用于文物检测的方法及系统

权利要求书

1.柔性近红外陷波片，其特征在于：包括基底以及设置于基底上的复合膜，所述复合膜包括若干层膜，所述复合膜中相邻层膜的折射率不同，所述各层膜交替叠加构成多层膜结构。

2.如权利要求1所述的柔性近红外陷波片，其特征在于：所述复合膜包括第一折射率膜、第二折射率膜；

所述第一折射率膜的折射率大于第二折射率膜的折射率；

所述第一折射率膜为高折射率膜，所述第二折射率膜为低折射率膜。

3.如权利要求1所述的柔性近红外陷波片，其特征在于：所述第一折射率膜为TiO₂膜，所述第二折射率膜为SiO₂膜；

所述TiO₂膜的折射率为2.0-2.4；

所述SiO₂膜的折射率为1.52-1.55；

所述TiO₂膜的厚度为10nm-500nm；

所述SiO₂膜的厚度为10nm-200nm。

4.根据权利要求1-3任一项所述的柔性近红外陷波片的制作工艺，其特征在于：所述柔性近红外陷波片是通过磁控溅射设备镀制形成，包括以下步骤：

S1：确定基底、第一折射率材料和第二折射率材料及其加工参数；

S2：根据选定的第一折射率材料、第二折射率材以及预设陷波波段料确定膜层厚度和膜层层数；

S3：将第一折射率材料和第二折射率靶材分别放入对应靶腔；

S4：将柔性基底用超声波清洗设备清洗托干后放上基底托盘；

S5：通过直流反应溅射第一折射率材料形成第一层薄膜；

S6：通过射频溅射第二折射率材料形成第二层薄膜；

S7：循环交替溅射直到满足确定的膜层厚度和膜层层数条件为止，最终形成柔性近红外陷波片。

5.如权利要求4所述的柔性近红外陷波片的制作工艺，其特征在于：所述确定膜层厚度和膜层层数按照以下步骤确定：

S21：将第一折射率材料和第二折射率材料组合成膜系结构；

S22：计算膜系结构的最佳插入位置；

S23：在膜系结构的最佳插入位置插入第一折射率材料薄层或第二折射率材料构成的薄层；

S24：插入薄层后评价函数将大幅度降低，返回步骤S22再次计算新膜系结构的最佳插入位置；

S25：重复循环步骤S22-24，直到得到满足预设光谱性能的膜系结构。

6.如权利要求5所述的柔性近红外陷波片的制作工艺，其特征在于：还包括以下步骤：

S26：判断膜系的各层膜的厚度是否满足膜层厚度约束条件，如果满足，则得到优化完成的膜系；

如果不满足，则确定需要合并的薄层，增加膜层厚度约束条件，进一步降低评价函数，直至各层膜的厚度已满足膜层厚度约束条件且膜系性能满足预设光谱性能。

7.利用权利要求1-3任一项所述的柔性近红外陷波片的文物检测方法，其特征在于：包括以下步骤：

S1：将柔性近红外陷波片设置于待监控文物上预设位置；

S2：向待监控文物发射近红外光并获取从待监控文物发射回来的近红外光谱图像；

S3：处理近红外光谱图像并获取图像中在预设位置区域光谱特征图像；

S4：判断在预设位置区域光谱特征图像是否存在特征峰位；如果不存在，则说明文物处于非正常状态，并发出报警信号；

S5：如果存在，在说明文物处于正常状态，循环重复进行上述步骤S2-S4。

8.如权利要求7所述的文物检测方法，其特征在于：所述近红外光的波段为780nm～1700nm。