[发明专利]将图案转移到发光器件的外延层的方法

说明书

具有集成在其外延层中的光提取或导向结构的发光器件，其中使用横向外延生长技术制造光提取和导向结构，该技术将图案从生长限制掩模和/或主衬底转移到外延层。

相关申请的交叉引用

本申请根据35U.S.C.Section 119(e)要求以下共同未决和共同转让申请的权益：

Srinivas Gandrothula和Takeshi Kamikawa于2020年10月28日提交的题为“METHOD OF TRANSFERRING A PATTERN TO AN EPITAXIAL LAYER OF A LIGHT EMITTINGDEVICE”(代理人案卷号GC30794.0786USP1(UC 2021-565-1))的美国临时申请序列号63/106,444；

该申请在此引入作为参考。

本申请与以下共同未决和共同转让的申请相关：

Takeshi Kamikawa、Srinivas Gandrothula、Hongjian Li和Daniel A.Cohen于2019年10月24日提交的题为“METHOD OF REMOVING A SUBSTRATE”(代理人案卷号30794.0653USWO(UC 2017-621-2))的美国实用新型专利申请序列号16/608,071，该申请根据35U.S.C.Section 365(c)要求Takeshi Kamikawa、Srinivas Gandrothula、Hongjian Li和Daniel A.Cohen于2018年05月07日提交的题为“METHOD OF REMOVING A SUBSTRATE”(代理人案卷号30794.0653WOU1(UC 2017-621-2))的共同待决和共同转让的PCT国际专利申请序列号PCT/US18/31393的权益，该申请根据35U.S.C.Section119(e)要求TakeshiKamikawa、Srinivas Gandrothula、Hongjian Li和Daniel A.Cohen于2017年05月05日提交的题为“METHOD OF REMOVING ASUBSTRATE”(代理人案卷号30794.0653USP1(UC 2017-621-1))的共同待决和共同转让的美国临时专利申请序列号62/502,205的权益；

Takeshi Kamikawa、Srinivas Gandrothula和Hongjian Li于2020年02月26日提交的题为“METHOD OF REMOVING A SUBSTRATE WITH ACLEAVING TECHNIQUE”(代理人案卷号30794.0659USWO(UC 2018-086-2))的美国实用新型专利申请序列号16/642,298，该申请根据35U.S.C.Section 365(c)要求Takeshi Kamikawa、Srinivas Gandrothula和HongjianLi于2018年09月17日提交的题为“METHOD OF REMOVING ASUBSTRATE WITH A CLEAVINGTECHNIQUE”(代理人案卷号30794.0659WOU1(UC 2018-086-2))的共同待决和共同转让的PCT国际专利申请序列号PCT/US18/51375的权益，该申请根据35U.S.C.Section 119(e)要求Takeshi Kamikawa、Srinivas Gandrothula和Hongjian Li于2017年09月15日提交的题为“METHOD OF REMOVING A SUBSTRATE WITH ACLEAVING TECHNIQUE”(代理人案卷号30794.0659USP1(UC 2018-086-1))的共同待决和共同转让的美国临时专利申请序列号62/559,378的权益；