[发明专利]发光装置以及显示装置

说明书

本公开的发光装置具备：元件安装用构造体，具有第1面，在第1面设有凹部；和发光元件，被安装于凹部内。元件安装用构造体构成为从发光元件辐射的光之中的至少一部分的光在凹部的内周面被反射2次以上。

技术领域

本公开涉及发光装置以及显示装置。

背景技术

过去，例如已知专利文献1记载的发光装置。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：JP特开2013-8941号公报

发明内容

本公开的发光装置具备：元件安装用构造体，具备具有凹部的第1面；和发光元件，位于所述凹部内，所述元件安装用构造体构成为从所述发光元件辐射的光之中的至少一部分的光在所述凹部的内周面被反射2次以上。

此外，本公开的发光装置具备：元件安装用构造体，具备具有凹部的第1面；和发光元件，位于所述凹部内，所述凹部的开口面积超过底面积的1倍且为1.5倍以下，深度是所述底面积的平方根的绝对值的2.5倍以上。

本公开的显示装置具备多个上述发光装置，多个所述发光装置被矩阵状地排列。

附图说明

本公开的目的、特色以及优点会从下述的详细的说明和附图而变得更加明确。

图1是表示本公开的一实施方式所涉及的发光装置的俯视图。

图2是在图1的切断面线A1-A2切断的截面图。

图3是表示从发光二极管元件辐射的光的辐射强度的角度分布的图。

图4是表示本公开的一实施方式所涉及的发光装置的变形例的截面图。

图5是表示本公开的一实施方式所涉及的发光装置的变形例的截面图。

图6是表示本公开的一实施方式所涉及的显示装置的俯视图。

图7是在图6的切断面线B1-B2切断的截面图。

图8是表示本公开的其他实施方式所涉及的显示装置的图，是相当于图2的截面图。

图9是表示本公开的其他实施方式所涉及的显示装置的图，是相当于图2的截面图。

图10是表示本公开的其他实施方式所涉及的显示装置的图，是相当于图2的截面图。

图11是表示本公开的其他实施方式所涉及的显示装置的图，是相当于图2的截面图。

图12是表示本公开的其他实施方式所涉及的显示装置的图，是相当于图2的截面图。

具体实施方式

对本公开的实施方式所涉及的发光装置设为基础的结构进行说明。专利文献1记载的现有的发光装置是在基板的一个主面上配置发光元件和包围该发光元件的框状的反射构件的发光装置。发光二极管元件等发光元件有时具有光辐射强度的角度分布在与光辐射面垂直的方向上未成为最大的配光特性。在现有的发光装置中，在使用具有这样的配光特性的发光元件的情况下，有时来自发光装置的辐射光的指向性变低。此外，在将这样的发光装置矩阵状地排列多个来构成显示装置的情况下，有时从相互接近的多个发光装置辐射的光会干扰，显示装置的显示品位降低。

以下参考附图来说明本公开的发光装置以及显示装置的实施方式。以下参考的各附图表示实施方式所涉及的发光装置以及显示装置的主要的结构构件等。本公开的实施方式所涉及的发光装置以及显示装置可以具备未图示的电路基板、布线导体、控制IC、LSI等周知的结构。