[发明专利]上颌窦提升模拟方法及其装置在审
申请号: | 202180031401.1 | 申请日: | 2021-03-18 |
公开(公告)号: | CN115461012A | 公开(公告)日: | 2022-12-09 |
发明(设计)人: | 周原炯;李度显;崔圭钰 | 申请(专利权)人: | 奥齿泰有限责任公司 |
主分类号: | A61C8/00 | 分类号: | A61C8/00;A61B34/10;A61B34/00;A61B90/00 |
代理公司: | 北京市集佳律师事务所 16095 | 代理人: | 穆云丽 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 上颌 提升 模拟 方法 及其 装置 | ||
公开了上颌窦提升模拟方法及其装置。在根据实施方式的上颌窦提升模拟方法及其装置中,在牙科图像上执行植体移植模拟时如果移植的植体侵入上颌窦,则自动执行上颌窦提升模拟并且在牙科图像上显示上颌窦提升模拟信息,从而确保用户的便利使用以及使用户能够减少错误。
技术领域
本公开内容涉及牙科图像处理技术,更具体地,涉及在牙科图像中模拟上颌窦提升的技术。
背景技术
移植是一种用于通过将移植体放置到颌骨中或放置在颌骨上以支承用于填补受损牙齿的冠来固定人工牙齿的牙齿修复术。为了移植手术的成功,将移植体牢固地固定至骨头是很重要的。但是,当移植体被放置的位置的骨组织薄弱或骨厚度不足时,则在通过移植自体骨、人造骨、合成骨等来加强骨组织后,再进行移植手术。
特别是在上颌窦以下的位置执行移植手术时,在很多情况下,骨厚度相对于移植体长度而不足,使得难以放置移植体。此处,在不顾骨厚度不足而执行移植手术时,由于周围的骨组织不能充分支承放置的移植体,可能会出现移植体脱落或咀嚼运动时周围的骨组织破裂的问题。为防止这样的问题,当上颌骨厚度不足时,执行上颌窦提升,其中,上颌窦膜被提升然后骨被移植到上颌窦内以确保移植体放置空间。上颌窦膜组织是上颌窦内形成的控制鼻腔湿度和发声时控制共振的组织。
然而,在一般的牙科图像处理软件中,在移植体放置模拟期间,用户应直接检查是否发生移植体对上颌窦的影响。在这种情况下,不方便使用,并且在上颌窦提升手术中由于用户基于用户自身的经验和判断执行手术而存在出错的风险。
发明内容
[技术问题]
本公开内容的一个实施方式提出了上颌窦提升模拟方法以及上颌窦提升模拟装置,其能够在移植体放置模拟期间自动执行上颌窦提升模拟,以告知用户是否发生移植体对上颌窦的影响,从而提高了使用的方便性并减少了错误。
[技术方案]
根据一种实施方式的上颌窦提升模拟方法包括以下操作:在患者的牙科图像中执行移植体放置模拟;在移植体放置模拟期间,确定是否由于移植体对上颌窦的影响而需要上颌窦提升;仅在需要进行所述上颌窦提升的情况下,自动执行上颌窦提升模拟,并在所述牙科图像中自动显示上颌窦提升模拟信息,所述上颌窦提升模拟信息包括:关于基于所述移植体发生上颌窦影响的区域的信息和关于骨移植量的信息;响应于移植体放置情况的变化,根据变化后的移植体放置情况改变所述上颌窦提升模拟信息,并在所述牙科图像中自动显示改变后的上颌窦提升模拟信息。
确定是否需要所述上颌窦提升的操作可以包括以下操作:基于在所述牙科图像中放置的所述移植体设置上颌窦模拟区域;在设置的上颌窦模拟区域内设置移植体影响区域;确定在移植体放置过程中所述移植体是否影响所述移植体影响区域;响应于所述移植体影响所述移植体影响区域,确定需要所述上颌窦提升。
设置所述上颌窦模拟区域的操作可以包括以下操作:将所述上颌窦模拟区域设置为半球形,所述半球形以从所述移植体的参考点作为起始点到距所述移植体的上端预定距离处的点的长度作为半径。
在设置所述上颌窦模拟区域的操作中,在连续放置两个移植体的情况下,响应于两个上颌窦模拟区域至少部分地互相交叠,可以将所述两个上颌窦模拟区域的端点相互连接,以设置单个上颌窦模拟区域;以及在设置所述移植体影响区域时,可以在设置的单个上颌窦模拟区域内设置所述两个移植体所影响的单个移植体影响区域。
设置所述移植体影响区域的操作可以包括以下操作:计算设置的上颌窦模拟区域的密度值,以及将所述上颌窦模拟区域中密度值小于预定密度值的区域设置为所述移植体影响区域。
在所述牙科图像中自动显示所述上颌窦提升模拟信息的操作可以包括以下操作:在所述牙科图像中显示所述移植体影响区域,以及计算并显示所述移植体影响区域的体积。
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