[发明专利]上颌窦提升模拟方法及其装置

权利要求书

1.一种由上颌窦提升模拟装置执行的上颌窦提升模拟方法，所述上颌窦提升模拟方法包括以下操作：

在患者的牙科图像中执行移植体放置模拟；

在所述移植体放置模拟期间，确定是否由于移植体对上颌窦的影响而需要上颌窦提升；

仅在需要进行所述上颌窦提升的情况下，自动执行上颌窦提升模拟，并在所述牙科图像中自动显示上颌窦提升模拟信息，所述上颌窦提升模拟信息包括关于基于所述移植体发生上颌窦影响的区域的信息和关于骨移植量的信息，以及

响应于移植体放置情况的变化，根据变化后的移植体放置情况改变所述上颌窦提升模拟信息，并在所述牙科图像中自动显示改变后的上颌窦提升模拟信息。

2.根据权利要求1所述的上颌窦提升模拟方法，其中，确定是否需要所述上颌窦提升的操作包括以下操作：

基于在所述牙科图像中放置的所述移植体设置上颌窦模拟区域；

在设置的上颌窦模拟区域内设置移植体影响区域；

确定在移植体放置过程中所述移植体是否影响所述移植体影响区域；以及

响应于所述移植体影响所述移植体影响区域，确定需要所述上颌窦提升。

3.根据权利要求2所述的上颌窦提升模拟方法，其中，设置所述上颌窦模拟区域的操作包括以下操作：将所述上颌窦模拟区域设置为半球形，所述半球形以从所述移植体的参考点作为起始点到距所述移植体的上端预定距离处的点的长度作为半径。

4.根据权利要求2所述的上颌窦提升模拟方法，其中：

在设置所述上颌窦模拟区域的操作中，在连续放置两个移植体的情况下，响应于两个上颌窦模拟区域至少部分地互相交叠，将所述两个上颌窦模拟区域的端点相互连接，以设置单个上颌窦模拟区域；以及

在设置所述移植体影响区域时，在设置的单个上颌窦模拟区域内设置所述两个移植体所影响的单个移植体影响区域。

5.根据权利要求2所述的上颌窦提升模拟方法，其中，设置所述移植体影响区域的操作包括以下操作：

计算设置的上颌窦模拟区域的密度值；以及

将所述上颌窦模拟区域中密度值小于预定密度值的区域设置为所述移植体影响区域。

6.根据权利要求1所述的上颌窦提升模拟方法，其中，在所述牙科图像中自动显示所述上颌窦提升模拟信息的操作包括以下操作：

在所述牙科图像中显示所述移植体影响区域；以及

计算并显示所述移植体影响区域的体积。

7.根据权利要求1所述的上颌窦提升模拟方法，其中，在改变所述上颌窦提升模拟信息并在所述牙科图像中自动显示改变后的上颌窦提升模拟信息的操作中，响应于移植体信息的变化，关于基于所述移植体发生所述上颌窦影响的区域的信息和关于所述骨移植量的信息被改变以与变化后的移植体信息对应，并被自动显示在所述牙科图像中。

8.根据权利要求1所述的上颌窦提升模拟方法，其中，在改变所述上颌窦提升模拟信息并在所述牙科图像中自动显示改变后的上颌窦提升模拟信息的操作中，响应于所述移植体的移动，所述上颌窦模拟区域被一起移动，响应于所述移植体的长度的变化，所述上颌窦模拟区域的半径被改变，然后关于基于所述移植体发生所述上颌窦影响的区域的信息和关于所述骨移植量的信息被改变以与所述上颌窦模拟区域的移动或所述半径的改变对应，并被自动显示在所述牙科图像中。

9.根据权利要求1所述的上颌窦提升模拟方法，还包括以下操作：提供上颌窦提升模拟设置屏幕，所述上颌窦提升模拟设置屏幕用于设置以下接口中的至少一个：用于设置是否使用上颌窦提升模拟的接口；用于设置移植体影响区域的显示颜色的接口；用于设置从所述移植体的上端到上颌窦模拟区域的长度的接口；用于设置所述移植体影响区域的不透明度的接口；以及用于设置所述移植体的参考点的接口。