[发明专利]距离测量装置和距离测量方法

权利要求书

1.一种距离测量装置，其包括：

发光部，其被配置为向物体发射具有调制频率的光；

受光部，其被配置为接收从所述发光部发射并由所述物体反射而返回的所述光，以及

控制器，其被配置为基于所述受光部的接收光的放射强度来测量由所述发光部发射的所述光的时间与由所述受光部接收的所述光的时间之间的时间长度，以获得到所述物体的距离，

其中，所述控制器被配置为执行第一测量来使所述发光部以第一调制频率发射所述光，从而以第一多次来测量所述光由所述受光部接收之前的所述时间长度，

其中，所述控制器被配置为执行第二测量来使所述发光部以低于所述第一调制频率的第二调制频率发射所述光，从而以少于所述第一多次的第二多次来测量所述光由所述受光部接收之前的所述时间长度，

其中，所述控制器被配置为基于在所述第一测量中获得的所述时间长度和在所述第二测量中获得的所述时间长度来计算到所述物体的所述距离。

2.根据权利要求1所述的距离测量装置，其中：

所述第一测量包括使所述发光部以所述第一调制频率发射第一照射时间的所述光的测量，和使所述发光部以所述第一调制频率发射比所述第一照射时间长的第二照射时间的所述光的测量，

所述第二测量包括使所述发光部以所述第二调制频率发射第三照射时间的所述光的测量，以及

所述第三照射时间比所述第一照射时间长且比所述第二照射时间短。

3.根据权利要求1所述的距离测量装置，其中：

所述第一测量包括使所述发光部以所述第一调制频率发射第一照射时间的所述光的测量，其中，多次执行所述测量。

4.根据权利要求1所述的距离测量装置，其中：

所述第二测量包括使所述发光部以所述第二调制频率发射第三照射时间的所述光的测量，以及

其中，多次执行所述测量。

5.根据权利要求1所述的距离测量装置，其中：

所述第一测量包括使所述发光部以所述第一调制频率发射第一照射时间的所述光的测量，

其中，多次执行所述测量，

所述第一测量包括使所述发光部以所述第一调制频率发射比第一照射时间短的第二照射时间的所述光的测量，

所述第二测量包括使所述发光部以所述第二调制频率发射第三照射时间的所述光的测量，以及

所述第三照射时间等于所述第一照射时间或所述第二照射时间。

6.根据权利要求3或5所述的距离测量装置，其中：

所述控制器被配置为在所述第一测量中，每当执行使所述发光部以所述第一调制频率发射所述第一照射时间的所述光的所述测量时，获得来自所述受光部的针对所述第一照射时间的所述接收光的放射强度，

所述控制器被配置为在所述第一测量中，每当执行使所述发光部以所述第一调制频率发射所述第一照射时间的所述光的所述测量时，对所述接收光的放射强度进行加算，

所述控制器被配置为在所述第一测量中，基于所述加算的接收光的放射强度来测量所述光由所述发光部发射的所述时间与所述光由所述受光部接收的时间之间的时间。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的距离测量装置，其中：

所述控制器被配置为基于在所述第二测量中所述受光部的所述接收光的放射强度是否已经达到饱和水平的信息来处理在所述第一测量中获得的数据以避免混叠。

8.根据权利要求1至6中任一项所述的距离测量装置，其中：

所述控制器被配置为在所述第一测量和所述第二测量中，当所述受光部的所述接收光的放射强度等于或大于下限放射强度时，判定测量数据为有效，以及

所述第二测量中的所述下限放射强度小于所述第一测量中的所述下限放射强度。