[发明专利]使用聚羧酸化物醚抑制剂的电镀

权利要求书

1.一种在基材上沉积金属层的方法，包括：

a)使基材与包含金属离子源和抑制剂的金属镀敷浴接触，和

b)向基材施加电流密度，

其中抑制剂是可通过聚合包含以下单体的单体混合物而获得的聚羧酸化物醚：

(I)至少一种烯键式不饱和单体(I)，其包含至少一个来自系列羧酸、羧酸盐、羧酸酯、羧酸酰胺、羧酸酐和羧酰亚胺的基团；和

(II)至少一种具有聚氧化烯基团的烯键式不饱和单体(II)。

2.根据权利要求1所述的方法，其中烯键式不饱和单体(I)包含至少一个来自系列羧酸、羧酸盐和羧酸酰胺的基团。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中烯键式不饱和单体(I)由至少一个以下来自组(Ia)、(Ib)和(Ic)的通式表示：

其中

R¹和R²彼此独立地是氢或具有1-20个C原子的脂族烃基，

Y是H、-COOM_a、-CO-O(C_qH_2qO)_r-R³或-CO-NH-(C_qH_2qO)_r-R³，

M是氢、一价或二价金属阳离子、铵离子或有机胺基团，

a是1/2或1，

R³是氢、具有1-20个C原子的脂族烃基、具有5-8个C原子的环脂族烃基或具有6-14个C原子的任选经取代的芳基，

q对于各(C_qH_2qO)单元在每次出现时独立地是相同的或不同的并且是2、3或4，

r是0-200，和

Z是O或NR³，

其中

R⁴和R⁵彼此独立地是氢或具有1-20个C原子的脂族烃基、具有5-8个C原子的环脂族烃基或具有6-14个C原子的任选经取代的芳基，

Q是相同或不同的且由NH、NR³或O表示，其中R³具有上述定义，

R⁶是相同或不同的并由其中n＝0、1、2、3或4的(C_nH_2n)-SO₃H，其中n＝0、1、2、3或4的(C_nH_2n)-OH，其中n＝0、1、2、3或4的(C_nH_2n)-PO₃H₂，其中n＝0、1、2、3或4的(C_nH_2n)-OPO₃H₂，(C₆H₄)-SO₃H，(C₆H₄)-PO₃H₂，(C₆H₄)-OPO₃H₂和其中n＝0、1、2、3或4且b＝2或3的(C_nH_2n)-NR⁸_b表示，R⁷为H、-COOM_a、-CO-O(C_qH_2qO)_r-R³或-CO-NH-(C_qH_2qO)_r-R³，其中M_a、R³、q和r具有上述定义，

R⁸是氢、具有1-10个C原子的脂族烃基、具有5-8个C原子的环脂族烃基或具有6-14个C原子的任选经取代的芳基。