[发明专利]活性气体生成装置

说明书

本发明的目的在于提供一种喷出不含杂质的优质的活性气体的构造的活性气体生成装置。并且，本发明的活性气体生成装置(100C)通过冷却板(9)、电极按压部件(8)以及高电压施加电极部(1C)而设置对壳体内空间(33)与放电空间(6C)之间的气体流动进行分离的气体分离构造。活性气体生成装置(100C)还具有设置在高电压施加电极部(1C)的电极用介电膜(11)的上表面上的辅助用金属电极(12)。辅助用金属电极(12)设置为在俯视时与活性气体流通路径的一部分重复，且被设定为接地电位。

技术领域

本发明涉及一种活性气体生成装置，通过平行平板方式的电介质阻挡放电来生成活性气体，并将活性气体向后级的处理空间供给。

背景技术

作为通过平行平板方式的电介质阻挡放电来生成活性气体的活性气体生成装置，例如存在专利文献1所公开的活性气体生成装置。

在专利文献1所公开的以往的活性气体生成装置中，在装置后级存在处理腔室等处理空间。

以往的活性气体生成装置利用电介质阻挡放电，从氮气等原料气体生成氮自由基等活性气体，并将活性气体向处理空间喷出。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2019/229873号

发明内容

发明要解决的课题

以往的活性气体生成装置的构造为，经由设置于高电压侧电极的高电压施加用的金属电极等所露出的高电压供电部空间后的气体被导向放电空间。在该情况下，若由于高温或异常放电而金属电极的成分等蒸发，则其成分直接混入到放电空间，有可能成为在处理空间中执行的半导体成膜处理中的微粒或金属污染的原因。

即，在以往的活性气体生成装置中，存在有可能无法输出高品质的活性气体这样的问题。

在本发明中，其目的在于，解决上述那样的问题，提供一种活性气体生成装置，该活性气体生成装置的构造为，通过对电极构成部及其周边部的形状、安装构造下工夫来喷出不含杂质的高品质的活性气体。

用于解决课题的手段