[发明专利]活性气体生成装置在审
申请号: | 202180007362.1 | 申请日: | 2021-06-25 |
公开(公告)号: | CN114916256A | 公开(公告)日: | 2022-08-16 |
发明(设计)人: | 有田廉;渡边谦资 | 申请(专利权)人: | 东芝三菱电机产业系统株式会社 |
主分类号: | H05H1/24 | 分类号: | H05H1/24 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 戚宏梅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 活性 气体 生成 装置 | ||
1.一种活性气体生成装置,生成使供给至放电空间的原料气体活化而得到的活性气体,其特征在于,具备:
第1电极构成部;以及
第2电极构成部,设置在上述第1电极构成部的下方,
上述第1电极构成部具有第1电极用介电膜以及形成在上述第1电极用介电膜的上表面上的第1金属电极,上述第2电极构成部具有第2电极用介电膜以及形成在上述第2电极用介电膜的下表面上的第2金属电极,上述第1金属电极被施加交流电压,上述第2金属电极被设定为接地电位,在上述第1以及第2电极用介电膜对置的电介质空间内,作为上述放电空间而包含上述第1以及第2金属电极在俯视时重复的区域,
上述第2电极用介电膜具有用于将上述活性气体向下方喷出的气体喷出孔,从上述放电空间到上述气体喷出孔的路径被规定为活性气体流通路径,
上述活性气体生成装置还具备基座凸缘,该基座凸缘具有导电性,截面构造为凹状,具有中央底面区域以及沿着上述中央底面区域的外周设置并向高度方向突出的周边突出部,上述第2电极构成部以上述第2金属电极接触在上述中央底面区域上的方式设置,
上述活性气体生成装置还具备:
导电性构造体,具有导电性,设置在上述基座凸缘的上述周边突出部上,不与上述第1电极构成部接触地位于上述第1电极构成部的上方;
绝缘材,设置在上述导电性构造体与上述第1电极构成部之间,上表面与上述导电性构造体的下表面接触,且下表面与上述第1金属电极的上表面接触;
电极支承部件,以从下方支承上述第1电极构成部的方式设置在上述导电性构造体的下表面上;以及
金属制的壳体,设置在上述基座凸缘的上述周边突出部上,具有收容上述导电性构造体的壳体内空间,
上述基座凸缘具有:
气体供给口,从外部接受上述原料气体;
气体通过路径,用于将上述原料气体向上述放电空间供给;以及
基座凸缘用气体喷出孔,用于将从上述气体喷出孔喷出的上述活性气体向下方喷出,
上述基座凸缘被赋予接地电位,
通过上述导电性构造体、上述电极支承部件以及上述第1电极构成部,设置将上述壳体内空间与上述放电空间之间的气体的流动分离的气体分离构造,
上述活性气体生成装置还具有与上述第1金属电极相独立地设置在上述第1电极用介电膜的上表面上的第3金属电极,
上述第3金属电极被设置为在俯视时与上述活性气体流通路径的一部分重复,并且被设定为接地电位。
2.如权利要求1所述的活性气体生成装置,其中,
上述绝缘材具有贯通孔,上述贯通孔设置于在俯视时与上述第3金属电极重复的区域,
上述第3金属电极经由上述贯通孔而与上述导电性构造体电连接。
3.如权利要求1或2所述的活性气体生成装置,其中,
上述第1金属电极在俯视时形成为在中心具有开口部的圆环状,
上述第3金属电极在俯视时形成为圆状,
上述第3金属电极在上述开口部内设置于在俯视时与上述气体喷出孔重复的区域。
4.如权利要求1至3中任一项所述的活性气体生成装置,其特征在于,
还具备活性气体用辅助构造,该活性气体用辅助构造为,在上述电介质空间内,在上述放电空间与上述气体喷出孔之间,以将上述活性气体流通路径的一部分填埋的方式设置。
5.如权利要求4所述的活性气体生成装置,其中,
上述第2电极用介电膜以将上述活性气体流通路径的一部分填埋的方式具有向高度方向突出的电介质突出部,
上述电介质突出部作为上述活性气体用辅助构造起作用。
6.如权利要求1至5中任一项所述的活性气体生成装置,其中,
上述基座凸缘还具有:
冷却介质供给口,从外部接受冷却介质;以及
冷却介质通过口,用于将上述冷却介质向上述导电性构造体供给,
上述导电性构造体在内部具有冷却介质路径,该冷却介质路径使经由上述冷却介质通过口供给的上述冷却介质在内部流通。
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