[实用新型]一种真空镀膜试验装置

权利要求书

1.一种真空镀膜试验装置，其特征在于，所述装置包括依次设置的上料机构、第一分子泵室、工艺成膜室和第二分子泵室；所述第一分子泵室和第二分子泵室均和用于抽真空的真空结构连接；

所述工艺成膜室内设有升降机构；所述升降机构包括升降平台和用于实现升降平台升降的动力导向结构；

所述升降平台包括水平设置的靶材收集板、冷却板以及竖直设置的支撑杆；所述冷却板设于所述靶材收集板下方，所述支撑杆设置在所述冷却板下方；

所述支撑杆的底端与所述动力导向结构连接。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜试验装置，其特征在于，所述动力导向结构包括金属支架、导轨、滑块、丝杆和电机；

所述支撑杆的底端与水平设置的所述金属支架连接，所述金属支架通过垂直设置的所述丝杆与所述电机连接；所述丝杆通过所述滑块与竖直设置的所述导轨滑动连接。

3.根据权利要求1所述的真空镀膜试验装置，其特征在于，所述支撑杆的底端穿过所述工艺成膜室的底面并伸出，伸出部分通过动密封结构与所述动力导向结构连接。

4.根据权利要求3所述的真空镀膜试验装置，其特征在于，所述动密封结构包括上真空法兰、下真空法兰以及可伸缩波纹管；

所述上真空法兰通过螺栓与所述工艺成膜室的底面固接，所述下真空法兰通过螺栓与所述动力导向结构固接；

所述可伸缩波纹管的上端与所述上真空法兰固接，下端与所述下真空法兰固接。

5.根据权利要求4所述的真空镀膜试验装置，其特征在于，所述上真空法兰与所述工艺成膜室的底面之间设有0型密封圈实现密封连接，所述下真空法兰与所述动力导向结构之间设有0型密封圈实现密封连接。

6.根据权利要求1所述的真空镀膜试验装置，其特征在于，所述真空结构包括机械泵组、第一分子泵、第二分子泵、第一管道和第二管道；

所述机械泵组通过所述第一管道与所述第一分子泵室连接，所述第一管道上设有所述第一分子泵；

所述机械泵组通过所述第二管道与所述第二分子泵室连接，所述第二管道上设有所述第二分子泵。

7.根据权利要求1所述的真空镀膜试验装置，其特征在于，所述上料机构包括上料支撑结构、若干第一滚轮以及上料电机；

所述第一滚轮设于所述上料支撑结构上，所述上料电机与所述第一滚轮连接。

8.根据权利要求1所述的真空镀膜试验装置，其特征在于，所述第一分子泵室、所述工艺成膜室和所述第二分子泵室内均设有若干第二滚轮，所述第二滚轮与传动电机连接；

所述靶材收集板设于所述第二滚轮下方。

9.根据权利要求1所述的真空镀膜试验装置，其特征在于，所述工艺成膜室内设有阴极结构，所述阴极结构包括电源和旋转阴极；所述旋转阴极吊设在所述工艺成膜室上壁。

10.根据权利要求1所述的真空镀膜试验装置，其特征在于，所述工艺成膜室与工艺气体导入部件连接，所述工艺气体导入部件包括气体源、工艺气体管路以及设于所述工艺气体管路上的控制器件；

所述工艺气体管路的两端分别连接所述气体源和所述工艺成膜室内腔。