[实用新型]一种真空镀膜用基片输送装置

说明书

本实用新型公开了一种真空镀膜用基片输送装置，属于真空镀膜机技术领域，包括套接在传输辊上的输送带，所述输送带上分布等距的若干个限位块，使所述输送带带着所述限位块移动时将基片推送，所述输送带上方还安装有引导机构，所述引导机构包括伺服电机驱动的引导履带，所述引导履带倾斜向上设置且底端与所述输送带表面靠近，使所述基片从通过所述输送带输送转移到通过所述引导履带输送。通过在输送带上方设置倾斜向上的引导机构，使基片可以通过输送带水平输送到引导机构上时，再由引导履带倾斜向上输送基片，使基片到达镀膜机的基片台上完成上料，引导履带由伺服电机驱动因此可反向转动将基片从基片台上接下再送回输送带上完成下料。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜机技术领域，特别涉及一种真空镀膜用基片输送装置。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点－岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

基片一般通过输送装置运送到基片台上进行镀膜，镀膜完成取下后再利用运输装置运送到到指定位置收纳，因此输送装置具有重要的作用，但是传统的输送装置一般采用机械抓取的方式转运基片，容易对基片造成磨损，有的采用输送带传输的方式，但是无法准确的将基片运送到基片台，因此传统的输送装置使用时仍存在一定的缺陷。

实用新型内容

本实用新型的目的就在于为了解决上述真空镀膜机的基片输送装置无法准确的将基片送向基片台的问题而提供一种真空镀膜用基片输送装置，具有输送位置更精确，便于基片上下料的优点。

本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的，一种真空镀膜用基片输送装置，包括套接在传输辊上的输送带，所述输送带上分布等距的若干个限位块，使所述输送带带着所述限位块移动时将基片推送，所述输送带上方还安装有引导机构，所述引导机构包括伺服电机驱动的引导履带，所述引导履带倾斜向上设置且底端与所述输送带表面靠近，使所述基片从通过所述输送带输送转移到通过所述引导履带输送。

优选的，所述引导履带的底部与输送带的表面设置有间隙，间隙的高度大于限位块的高度。

优选的，所述引导履带安装在摆动梁上，摆动梁固定在安装脚上，安装脚通过旋转轴与安装在传输辊的横梁转动连接，且安装脚与横梁之间通过弹簧弹性连接。

优选的，所述弹簧的一端连接安装脚，另一端连接调节丝杆，调节丝杆贯穿横梁且伸出横梁的一端套接有调节螺母。

优选的，所述引导履带的表面分布有若干个橡胶圈，橡胶圈与引导履带的表面一平。

优选的，所述传输辊安装在移动架上，移动架的底部设置有滑动座，移动架通过滑动座安装在电动滑轨上，使移动架可沿着电动滑轨长度方向移动。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、通过在输送带上方设置倾斜向上的引导机构，使基片可以通过输送带水平输送到引导机构上时，再由引导履带倾斜向上输送基片，使基片到达镀膜机的基片台上完成上料，引导履带由伺服电机驱动因此可反向转动将基片从基片台上接下再送回输送带上完成下料，从而利用该输送装置可实现基片的上下料。

2、通过将引导机构设置成可以摆动的结构，利用且摆动时通过弹簧保持摆动的弹性，在基片移动到引导机构顶端的时候可以下压引导机构偏移一定的角度，使引导机构的顶端触碰到基片台，保证基片可以准确的送向基片台，而且引导机构的转动角度可以调节，适合不同高度的基片台的使用。

附图说明