[实用新型]一种真空镀膜用基片输送装置

权利要求书

1.一种真空镀膜用基片输送装置，包括套接在传输辊(2)上的输送带(3)，所述输送带(3)上分布等距的若干个限位块(8)，使所述输送带(3)带着所述限位块(8)移动时将基片(9)推送，其特征在于，所述输送带(3)上方还安装有引导机构(5)，所述引导机构(5)包括伺服电机(13)驱动的引导履带(12)，所述引导履带(12)倾斜向上设置且底端与所述输送带(3)表面靠近，使所述基片(9)从通过所述输送带(3)输送转移到通过所述引导履带(12)输送。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜用基片输送装置，其特征在于，所述引导履带(12)的底部与输送带(3)的表面设置有间隙，间隙的高度大于限位块(8)的高度。

3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜用基片输送装置，其特征在于，所述引导履带(12)安装在摆动梁(11)上，摆动梁(11)固定在安装脚(10)上，安装脚(10)通过旋转轴(14)与安装在传输辊(2)的横梁(4)转动连接，且安装脚(10)与横梁(4)之间通过弹簧(15)弹性连接。

4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜用基片输送装置，其特征在于，所述弹簧(15)的一端连接安装脚(10)，另一端连接调节丝杆(18)，调节丝杆(18)贯穿横梁(4)且伸出横梁(4)的一端套接有调节螺母(17)。

5.根据权利要求1所述的一种真空镀膜用基片输送装置，其特征在于，所述引导履带(12)的表面分布有若干个橡胶圈(16)，橡胶圈(16)与引导履带(12)的表面一平。

6.根据权利要求1所述的一种真空镀膜用基片输送装置，其特征在于，所述传输辊(2)安装在移动架(1)上，移动架(1)的底部设置有滑动座(6)，移动架(1)通过滑动座(6)安装在电动滑轨(7)上，使移动架(1)可沿着电动滑轨(7)长度方向移动。